Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9227018 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur à dépôt chimique/physique en phase vapeur à vide (CVD/PVD). Ce type de réacteur CVD/PVD est souvent utilisé pour des applications performantes telles que la microélectronique et l'optoélectronique. Les composants clés du réacteur AMAT CENTURA comprennent une chambre de procédé, une pompe à vide, une source de dépôt, un panneau de gaz et un équipement de contrôle de procédé. La chambre de procédé est le composant principal du réacteur et se compose d'une chambre étanche et d'un système de porte qui peut être ouvert et fermé pour réguler l'atmosphère dans la chambre. A l'intérieur de la chambre de procédé, les réactifs gazeux sont introduits dans un environnement sous vide créé par la pompe à vide. Les réactifs sont ensuite exposés à une température élevée, typiquement jusqu'à 1100 ° C, qui est fixée par la source de dépôt. La source de dépôt peut être un évaporateur à faisceau d'électrons, une source de plasma à couplage inductif, ou une source d'évaporation résistive, selon l'application. Le panneau de gaz installé dans le réacteur CENTURA MATÉRIAUX APPLIQUÉS est chargé d'introduire les réactifs dans la chambre de procédé selon les paramètres spécifiques établis par l'utilisateur. Il est également capable de contrôler la vitesse et le pourcentage de gaz utilisé. De plus, le panneau de gaz comporte des capteurs et des vannes d'arrêt qui permettent à l'utilisateur de contrôler le débit et l'activation de chaque composant du mélange de dépôt. L'unité de contrôle du procédé est chargée de contrôler et de contrôler les paramètres de la chambre du réacteur. La machine de contrôle de procédé est capable de détecter la vitesse de dépôt et la température du substrat de dépôt, ainsi que la pression de l'atmosphère de la chambre. Il a également des paramètres pour ajuster la température, l'atmosphère de travail et d'autres variables au besoin pour optimiser le processus de dépôt. Le réacteur CENTURA est un outil puissant largement utilisé dans l'industrie de la microélectronique et de l'optoélectronique depuis plusieurs décennies. Sa capacité à vide élevé, ses sources de dépôt sophistiquées et son puissant outil de contrôle des processus permettent la création de microstructures très sophistiquées et complexes nécessaires aux applications technologiques les plus avancées des matériaux.