Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9231993 à vendre en France

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ID: 9231993
Taille de la plaquette: 8"
PVD System, 8" (3) Chambers Load lock: Narrow body HP Robot Position A: STD AL Position B: G12 Position C: PC II Position F: Orienter degass Chamber A: Options: Application: AL Chamber body: Standard Wafer heater: Standard Cryo gate valve: 2PGV Source assembly: 12.9" Source adapter: 12.9" Magnet type: Dura source Magnet part number: 0010-20328 Chamber B: Options: Application Chamber body: Wide Wafer heater: A101 Cryo gate valve: 2PGV Source assembly: G12 Source adapter: G12 Magnet type: G12 Magnet part number: 0010-20768 Shutter assy included Chamber C: Options: Application: PC II Chamber body: PC II LEYBOLD 361c Turbo pump LEYBOLD 360 Pump controller RF Match: 0010-20524 Generator rack options: Selected option Position A RF generator: AE MDX-20K Position B RF generator: AE MDX-L6K Position C RF generator: RF Generators (CPS1001, LF-10).
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un équipement très avancé, sophistiqué et automatisé capable de traiter des plaquettes semi-conductrices avancées. Il s'agit d'un réacteur de production construit spécifiquement pour traiter des plaquettes de 300 millimètres de diamètre. Le système est équipé d'un transport entièrement automatisé, chambre et port de chargement qui est à la fois efficace et économique. L'unité AMAT CENTURA comporte trois composants de chambre principaux. La chambre avant comprend un port de chargement et la chambre arrière est équipée de sources de plasma à haute énergie et d'un bras robot pour la mise en place et la collecte de plaquettes dans la chambre. La troisième chambre, la chambre de procédé, est conçue pour traiter rapidement et avec précision chaque plaquette. Cette chambre possède une combinaison de sources d'électrons et de gaz à haute énergie. Le cycle complet de traitement au niveau de la chambre a lieu dans la chambre de procédé. La machine dispose également d'un outil granulaire de distribution de gaz grand et configurable. Cet actif fournit des espèces de gaz réactifs à la chambre de procédé pour produire et contrôler les sous-produits de réaction et les impuretés. La configurabilité permet à l'utilisateur de choisir parmi plusieurs points de réglage pour obtenir les résultats souhaités. Le modèle est équipé de modules d'autodiagnostic et de contrôle optique de la qualité (QC) pour assurer une production de qualité. L'équipement dispose également d'un système d'imagerie TEM (< 100nm) et d'une unité de microscopie électronique en temps réel avec zoom jusqu'à 3000 fois. Outre les chambres principales, la machine comprend également plusieurs systèmes auxiliaires. Ces systèmes sont utilisés pour gérer l'écoulement des gaz réactifs et pour contrôler les paramètres de l'outil tels que la pression, la température et l'humidité. L'actif est également équipé de deux refroidisseurs indépendants, d'un générateur RF et de pompes à vide. Le modèle est équipé d'un équipement d'acquisition de données à grande vitesse pour la collecte et l'analyse automatisées des données. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système CENTURA a une large gamme d'applications, y compris le traitement de fond de ligne et la détection des défauts d'espaceur. L'unité offre également un certain nombre d'options avancées de contrôle de processus tels que in-situ, le traitement thermique rapide, et la gravure autonome. La flexibilité de la machine permet aux utilisateurs de concevoir et d'adapter leur processus de production et leurs réglages pour une performance et une qualité optimales. En optimisant les paramètres et les paramètres, l'outil peut répondre à divers besoins de production et applications allant de la production de faible à de haut volume.
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