Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9236582 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) capable de fournir une large gamme de solutions de traitement pour le dépôt de couches minces. Le réacteur CVD utilise des sources chimiques, des surfaces chauffées et d'autres formes d'énergie, comme le plasma, pour déposer des couches minces d'alliages polycristallins, amorphes et, dans certains cas, directement liés ou d'autres composés sur divers substrats. Utilisé principalement dans la fabrication de puces semi-conductrices, AMAT CENTURA est capable de déposer des épaisseurs de couche allant de quelques angströms à plusieurs microns, avec une vitesse de dépôt maximale de 2 microns/heure. La chambre du réacteur CVD fournit un environnement sous vide qui permet la croissance fiable de structures complexes en couches minces et le dépôt de matériaux avancés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA utilise plusieurs systèmes d'introduction de gaz, y compris des modules d'évacuation et d'introduction séparés, pour permettre un contrôle précis de la température de traitement et du substrat. Le réacteur CVD dispose également d'un équipement optique de pointe pour l'observation et la mesure in situ précises des processus de dépôt. Le système comprend également un certain nombre de capteurs de sécurité, une unité de trempe avancée, une machine d'encapsulation d'oxyde et un outil de maintenance automatisé, qui assurent un fonctionnement sûr et efficace. Le réacteur CVD CENTURA est conçu pour des applications commerciales et de recherche. La chambre du réacteur est construite en acier inoxydable résistant à la corrosion et est entourée de parois très isolées qui empêchent le transfert de chaleur hors de la chambre, ce qui entraîne un processus très efficace. L'intérieur de la chambre est éclairé par des sources d'éclairage spéciales, offrant un environnement adapté à une grande variété de procédés de dépôt de CVD. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS CENTURA L'actif avancé de contrôle des procédés du réacteur CVD garantit des résultats de dépôt précis et reproductibles ainsi qu'une utilisation efficace des sources de gaz. Le modèle de contrôle automatisé des processus embarqué fournit également des données détaillées sur l'environnement des processus et permet aux utilisateurs d'optimiser facilement le processus de dépôt. Enfin, le réacteur CVD est équipé d'un équipement de nettoyage automatisé qui réduit les temps d'arrêt et assure une fiabilité à long terme. De plus, la conception modulaire du système permet un entretien et une mise à niveau faciles à l'avenir. Par conséquent, le réacteur CVD AMAT CENTURA est un choix idéal pour les applications commerciales et les besoins de recherche.