Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9245641 à vendre en France
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Vendu
ID: 9245641
Taille de la plaquette: 12"
CVD System, 12"
Includes:
0010-08687 Upper chamber A Ultima X HDP-CVD
0010-08687 Upper chamber B Ultima X HDP-CVD
0190-02955 Centura factory interface FFU-AMT -S1
0010-23250 Monolith unplat, 12"
ADVANCED ENERGY 3155120-001 A RF Rack
330241-D3GP Gas box platform, 12"
(2) SMC CORPORATION INR-498-011B Thermo chillers
0190-4213, 1B05180G03 HDP-CVD Primary AC distribution, 12"
Factory interface components:
(2) NEWPORT KENSINGTON 25-3700-1425-08 Robots
(2) KENSINGTON LABORATORIES Servo positioning controllers
(2) TKD CORPORATION TAS300, 02TF12953, 0190-17837 Load ports
KENSINGTON LABORATORIES 25-3600-0300-03 Wafer indexer
RF Rack components:
(2) ADVANCED ENERGY A3H0C200BA120G001A RF Generators, 10 kW/13
(2) ADVANCED ENERGY HFV 8000, 3155083-180A, 0920-0112 RF Generators
Robot
NSK Driver
(2) RPS Units
Missing parts:
Interconnect cables
Controller cabinet.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor est un outil utilisé pour construire des structures nano, en utilisant des techniques épitaxiales. C'est un équipement polyvalent, flexible et efficace de fabrication de semi-conducteurs. Il dispose de trois chambres et utilise une source RF de 13,56 MHz pour fournir de l'énergie au substrat, permettant un dépôt et une gravure très précis. La chambre primaire du réacteur AMAT CENTURA est le système de dépôt de substrat. Cette unité est utilisée pour déposer le matériau du dispositif sur le substrat et est contrôlée par un moteur pas à pas à haute résolution à pression de quartz équilibré. Cette machine peut être ajustée pour différents procédés tels que la pulvérisation, la pulvérisation magnétron à courant continu, la pulvérisation par torche et le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Cet outil est également capable de manipuler simultanément plusieurs substrats de différentes tailles. La deuxième chambre de MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA Réacteur est l'atout épitaxial. Cette chambre présente un biais RF pour placer un biais sur le substrat, permettant l'écriture directe des nanostructures souhaitées à l'aide du canon à électrons. Ce modèle est également capable de graver les nanostructures désirées avec une très grande précision et une grande vitesse. Cette chambre permet également le recuit des dispositifs, étape nécessaire à la stabilisation du matériau du dispositif. La dernière chambre du réacteur CENTURA est la chambre de métrologie, qui comprend des outils de métrologie tels qu'un microscope optique, un microscope à force atomique (AFM), un microscope électronique à balayage (SEM) et un ellipsomètre. L'utilisation de ces outils permet une imagerie haute résolution des nanostructures, ainsi qu'une analyse cinétique de leurs propriétés. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor est un outil fiable et performant pour la fabrication de nanostructures. Avec ses trois chambres et ses systèmes RF finement ajustés, cet outil peut être utilisé pour fabriquer des nanostructures des conceptions les plus complexes avec une très grande précision et vitesse. Sa polyvalence et son efficacité en font un choix rentable, fiable et excellent pour toute application de fabrication de nanostructures.
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