Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9251311 à vendre en France
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Vendu
ID: 9251311
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
PVD System, 8"
Load lock:
Body type: Narrow
Indexer: Automated
Buffer chamber:
HEWLETT-PACKARD Robot
Metal blade
Chamber A: GAMMA II TiN (ESC)
Chamber B: GAMMA II TiN (ESC)
Chamber C: PC-II
Chamber D: Cool down
Chamber F: Oreintor degas
Generator rack 1
0190-76118 Remote AC rack
No generator rack 2
No NESLAB
Missing parts:
NESLAB0190-76118 Chiller
Cool chamber upper
0190-01893 PVD DC Power supply 3 kV
(2) Heater drivers
SBC BD
(2) Ion gauge BD
FDD
DI/O BD
AI/O BD
Robot indexer cable
(2) CRT
(2) ESC Chuck assy Ch#A, B
(2) Heater lift motors
(2) Matchers
(2) 3620-01389 Compressors
Signal cable
0150-20678 Remote rack to Ch#A pump RJ13 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to Ch#B pump RJ14 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to Buffer pump RJ11 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to LL pump RJ12 - 50 ft
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur à haut niveau de dépôt chimique et physique en phase vapeur (CVD/PVD) qui est un pilier dans de nombreuses installations de fabrication de semi-conducteurs. AMAT CENTURA est capable de réaliser des processus de dépôt de couches minces de haute vitesse et de haute précision pour diverses tailles de substrat. L'équipement est équipé d'une technologie de commande automatisée de pointe qui est capable de contrôle précis de la gravure et du dépôt, ainsi que de dépôt de couches minces à basse température et haute uniformité. La conception du réacteur comprend également une pompe à couplage direct intégré et une technologie de contrôle thermique robuste pour une performance optimale. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CENTURA est conçu pour être utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs à base de silicium. Il est utilisé principalement dans la production de transistors à couches minces (TFT) et de circuits intégrés (IC) couramment utilisés dans une variété de produits électroniques, tels que les ordinateurs et les téléphones portables. CENTURA est également utilisé pour produire des photodétecteurs à semi-conducteurs et des technologies d'affichage, comme les OLED, les AMOLED et d'autres technologies d'affichage à écran plat. Le réacteur utilise une technologie de manipulation précise du substrat qui consiste en un robot et un système d'indexation qui permet une manipulation précise et automatisée des substrats de l'ordre de 0,5 à 12 pouces. La manipulation précise assurée par AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA permet une gravure précise et un dépôt en couches minces sans endommager le substrat. L'unité utilise également un paquet diagnostique avancé qui permet de surveiller les processus en temps réel et ajuste automatiquement le processus si nécessaire. La machine est également équipée d'une gamme de logiciels de contrôle avancés, qui permet un dépôt de précision et un contrôle de gravure pour une variété d'applications. Cela permet un contrôle précis du processus de dépôt ainsi que des taux de gravure et de dépôt exacts pour assurer la stabilité du processus. Le logiciel permet également d'obtenir des profils de couches précis et reproductibles qui garantissent la précision du dépôt en couches minces et des résultats de gravure. AMAT CENTURA est l'outil de dépôt chimique et physique en phase vapeur (CVD/PVD) le plus avancé et le plus fiable disponible. Il est capable de procédés de dépôt de couches minces de haute vitesse et de haute précision pour diverses tailles de substrat, ce qui en fait l'atout privilégié dans de nombreuses installations de fabrication de semi-conducteurs dans le monde. La manipulation précise et la technologie de contrôle avancée du modèle en font l'un des systèmes les plus fiables et précis du marché.
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