Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9282472 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un réacteur de dépôt utilisé pour le traitement des semi-conducteurs. Il s'agit d'une plate-forme leader de l'industrie pour permettre diverses technologies de dépôt de substrat telles que le dépôt par couche atomique (ALD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et la pulvérisation par pulvérisation. C'est l'un des outils de dépôt par plasma les plus utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur AMAT CENTURA offre une plate-forme pour des séquences de processus en plusieurs étapes qui peuvent être adaptées aux besoins de chaque procédé. Ces séquences comprennent le traitement thermique, le dépôt à base de plasma, la gravure et l'implantation ionique. Cette flexibilité permet d'utiliser l'outil pour un large éventail d'applications de procédés de dépôt. En outre, le réacteur peut être équipé d'une variété d'outils d'analyse avancés qui sont utilisés pour surveiller le processus en temps réel. Le réacteur Advanced Materials APPLIED MATERIALS CENTURA est conçu avec un large éventail de composants de processus et de chambre qui peuvent être configurés pour répondre aux besoins spécifiques des clients. Les composants clés comprennent une chambre à vide élevée, des équipements de distribution et d'épuration de gaz de haute pureté, un système de recharge électrique et des systèmes de régulation de la température. Les chambres sont équipées de suffisamment d'orifices pour que les plaquettes entrantes, les gaz et les capteurs de température soient contrôlés rapidement et avec précision. Le réacteur CENTURA offre un excellent contrôle de la température du substrat, de la composition du gaz et de la pression du procédé. Il dispose de plusieurs technologies de pointe telles qu'un mandrin de substrat chauffé résistivement, une unité de pression de rampe et des régulateurs de débit de gaz avancés. Ces caractéristiques permettent un meilleur contrôle des processus, ce qui est essentiel pour obtenir des processus cohérents et reproductibles. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA dispose également de capacités de métrologie avancées telles que les systèmes de contrôle automatisé des procédés (APC) et de surveillance in situ des procédés (IPM). APC utilise des données de mesure de routine pour déterminer si les paramètres du processus satisfont et/ou dépassent les conditions cibles prédéfinies. Cela permet de détecter rapidement la dérive du procédé pendant le dépôt et d'éviter que la qualité du produit ne soit compromise. IPM est une capacité à surveiller les données de processus de dépôt en temps réel des réacteurs au sein d'une architecture de machine ; cela garantit l'uniformité du substrat et le contrôle du processus. Le réacteur AMAT CENTURA est un outil économique et fiable pour plusieurs applications complexes de traitement des semi-conducteurs. Ses capacités de métrologie avancées, ses capacités de contrôle des processus et sa flexibilité en font le choix idéal pour des processus de haute qualité.