Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9286835 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9286835
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
Oxide etcher, 12" 2004 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le catalyseur Centura est un réacteur très avancé conçu pour le traitement à haut volume des applications de circuits intégrés 3D (IC). Sa conception supérieure permet de fabriquer à faible coût des solutions 3D IC avec des avantages en termes de temps d'exécution, de rendement et de performance par rapport aux solutions IC planaires traditionnelles. Le facilitateur tire parti de la technologie AMAT exclusive et de la conception avancée des réacteurs pour permettre une intégration 3D IC unique et efficace. Le Facilitateur est un système hybride qui combine des chambres de procédés optimisées et isolées pour intégrer plusieurs couches de circuits sans processus coûteux en plusieurs étapes. Il offre une capacité CVD couche-couche-couche (LBL) avancée, et est capable d'architectures 3D IC bidimensionnelles et tridimensionnelles. Ceci fournit une voie de fabrication à faible coût pour des produits 3D IC haute performance et économes en énergie. Le facilitateur est capable à la fois de CVD basse température (LTCVD) et de dépôt de couche atomique (ALD), permettant la formation d'une gamme d'architectures de dispositifs. Ceci permet de fabriquer des circuits intégrés complexes en logique, mémoire, stockage et analogique. L'ALD est une technique de dépôt en couches minces qui est utilisée pour former des couches minces d'épaisseur sous-nanométrique pour un contrôle précis des propriétés des couches. Le Facilitateur utilise également la technologie VMS (Variable-Mask Scanning) pour assurer un alignement précis des couches ultérieures. Cela garantit en outre la stabilité du dispositif et l'évolutivité de conception. Grâce à cette technologie, le facilitateur permet d'affiner chaque couche pour améliorer la fonctionnalité du dispositif. Le facilitateur offre également un fonctionnement entièrement automatisé avec un contrôle serré de la température, de la pression et d'autres paramètres de processus. Ceci permet une épaisseur de couche uniforme et cohérente sur une variété de géométries de substrat. Le Facilitateur est également rapidement configurable pour diverses recettes de production, et offre une gamme complète d'outils de processus. Le Facilitateur est alimenté par un système Linux intégré et sécurisé pour la collecte de données en temps réel et le contrôle autonome des processus. Cette architecture robuste garantit une sécurité avancée des données et des performances fiables pour une production à haut volume. Associé au support client de signature APPLIED MATERIALS, le Facilitateur offre l'environnement idéal pour l'innovation rapide et le succès dans la fabrication 3D IC.
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