Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9389470 à vendre en France
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ID: 9389470
Style Vintage: 1999
Poly etcher
Platform type: ETCH Centura I_Phase 2
Load lock: WBLL Wi Auto rotation
HP Robot
Position A and B: Metal DPS+
Position C and D: ASP+
Position E: Fast cool down
Position F: Orienter
Cooling station type: Fast cool down
AC Rack type: 84 Inch AC rack
RF Rack type: 84 Inch AC rack
VME Gas box
EPD Mono-crometer
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur CENTURA est un équipement de traitement des semi-conducteurs de haute performance et de grande taille. Il offre un contrôle thermique optimisé et est conçu pour effectuer une variété d'étapes de gravure, de dépôt et d'autres traitements nécessaires lors de la fabrication des semi-conducteurs. AMAT CENTURA dispose d'une chambre capable de contenir plusieurs chargements de plaquettes, ainsi que des serrures de chargement qui contiennent jusqu'à quatre plaquettes chacune. Il est équipé d'un ensemble de sources d'ions de haute précision, de sources de plasma et de mécanismes automatisés de transport des plaquettes. Le système offre également un ensemble complet d'options de contrôle de processus, y compris la pression de la chambre, la température et les débits de gaz, ainsi que les paramètres de puissance et de fréquence pour les sources d'ions. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CENTURA est alimenté par une alimentation de 65W, capable de fournir jusqu'à 100 % de puissance à la demande. L'unité est également équipée d'un module de régulation de température et de plusieurs ensembles de chauffages, permettant un cyclage thermique rapide et de haute précision de la chambre de traitement. La chambre est construite en acier inoxydable et est entourée d'un bouclier de sécurité des gaz semi-conducteurs en téflon. Afin de maximiser la propreté et le contrôle des particules, la machine dispose également de systèmes automatisés de purge et de surveillance des fuites à haute performance. Le réacteur CENTURA est capable d'effectuer une série d'étapes de procédé, y compris la gravure et le dépôt d'oxyde, la gravure et le dépôt de nitrures, les procédés de dépôt avancés tels que CVD, PVD et PECVD, et la gravure frontale. Son logiciel avancé de contrôle des processus permet aux utilisateurs de définir avec précision les paramètres de processus et les flux de gaz, de surveiller les pressions de la chambre et de gérer les temps de refroidissement de la chambre, qui fournissent tous plus de précision et de qualité de processus par rapport à d'autres systèmes. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA est un ajout précieux à toute installation de fabrication de semi-conducteurs, offrant les capacités d'un outil qui offre des performances et une précision élevées. Sa gamme d'étapes de processus, le contrôle avancé des processus et les températures élevées offrent des résultats de la plus haute qualité, ce qui améliore les performances et la qualité de sortie.
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