Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9409984 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur CENTURA est une solution complète pour une large gamme de procédés complexes de gravure et de dépôt utilisés dans l'industrie de la fabrication de circuits semi-conducteurs. Le réacteur se caractérise par son débit de dose élevé, son contrôle précis de divers paramètres de procédé, ainsi que son utilisation de gaz spéciaux ou de combinaisons de gaz pour le dépôt, la gravure et le nettoyage. Le réacteur a une chambre fermée, avec un design qui maximise l'uniformité et la précision de gravure. Il utilise une variété de gaz, tels que l'oxygène, l'azote et l'argon, afin de contrôler la température, la pression, l'épaisseur et la qualité de surface de la région de gravure. Les gaz de procédé peuvent être stockés et distribués directement à partir du réacteur, avec des systèmes comportant jusqu'à 10 conduites de gaz intégrées. Le mélange Argon-oxygène est capable de graver des films de tungstène et d'aluminium, par exemple. La conception en chambre fermée réduit également considérablement les dépôts de particules et la contamination. C'est un avantage majeur par rapport à d'autres conceptions car la contamination qui se produit a un effet néfaste sur l'uniformité et le rendement du produit. La Human Machine Interface (HMI) dispose d'un écran tactile de grande taille qui simplifie l'interaction des processus et ajoute un niveau de contrôle et de précision qui n'est pas disponible sur les systèmes de gravure moins avancés. En plus de ses commandes sophistiquées, le réacteur AMAT CENTURA dispose également d'une combinaison de capteurs, de cycleurs et de contrôleurs. Cela permet d'utiliser différentes combinaisons de gaz pour la gravure ou le dépôt et pour le contrôle précis des variables de procédé. Le système sophistiqué d'analyse des matériaux (MAS) permet un diagnostic rapide et fiable. Ceci est effectué en temps réel, ce qui signifie que des caractérisations peuvent être faites immédiatement et le procédé peut être ajusté en conséquence. Le MAS dispose également de capacités intégrées de cartographie des plaquettes et peut mesurer non seulement la largeur d'une fonctionnalité, mais aussi son angle de flanc. En conclusion, le réacteur APPLIED MATERIALS CENTURA fournit un système puissant, polyvalent et très précis pour la gravure des composants dans l'industrie des semi-conducteurs. La sensibilité du système permet un contrôle précis des différents paramètres, assurant ainsi un produit de qualité constante. Le réacteur dispose également d'un HMI innovant et sophistiqué, qui simplifie à la fois l'application et la caractérisation des produits. Enfin, la combinaison de capteurs, de cyclistes et de contrôleurs permet un processus intuitif et cohérent, qui permet d'assurer un rendement et une qualité de produit cohérents.