Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #293653986 à vendre en France

AMAT P5000 Chamber est un outil de traitement des semi-conducteurs utilisé pour développer et fabriquer des dispositifs avancés au niveau des plaquettes. Il s'agit d'un réacteur à plasma polygonal capable de contrôler des procédés de dépôt sous vide de grande puissance. La chambre P5000 offre des fonctionnalités avancées, y compris une grande chambre de procédé, un excellent contrôle thermique, une distribution uniforme du plasma et un fonctionnement sûr et efficace. La grande chambre intérieure permet le traitement de grands substrats tels que des plaquettes de 300mm et 450mm. Le contrôle thermique est fourni par un design innovant, avec des plaques isolées isolées à chaud et à froid qui peuvent également être pré-conditionnées électroniquement pour fournir une température de substrat uniforme. Une distribution uniforme du plasma est assurée par une chambre RF magnétiquement améliorée multi-zones et une électrode de tête de douche haute densité. La Chambre P5000 divise l'espace de la chambre en cinq zones distinctes afin de minimiser le risque de dommages au substrat par la contamination. Il dispose également d'une nouvelle technologie de générateur de ligne de plasma, permettant à la chambre de maintenir un plasma homogène pour un processus à haut débit. La chambre est également équipée d'un système de sas complet pour réduire les niveaux de contamination, permettant un fonctionnement efficace. La chambre est capable de produire des oxydes purs, des nitrures, des carbures et des métaux réfractaires. Il est équipé d'une source de quartz de plasma octogonal, d'une source de plasma couplée inductivement à l'indium et d'une source de résonance cyclotron électronique améliorée, qui fournit le plus haut niveau de précision de dépôt. Elle est particulièrement adaptée aux dispositifs III-V tels que l'arséniure de gallium, le nitrure de gallium et l'arséniure de gallium d'aluminium (GaAs/GaN/AlGaAs). APPLIED MATERIALS P5000 Chamber est conçu pour fournir un environnement sûr et fiable pour la production d'appareils de haute précision et la recherche. Il combine une grande chambre de processus avec une interface utilisateur intuitive, un contrôle plasma et thermique avancé, et un contrôle de contamination fiable. Cela garantit des résultats de fabrication de haute qualité dans un processus rentable et efficace.