Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9204032 à vendre en France

ID: 9204032
Taille de la plaquette: 6"
6" Stand-alone Pneumatic manifold P/N: 0010-09263 Process: Oxide etch (CF4 / C2F6).
Le réacteur AMAT P5000 est une chambre de dépôt de source utilisée dans divers procédés de dépôt de semi-conducteurs. C'est l'une des chambres de dépôt les plus polyvalentes et les plus conviviales du marché. Le P5000 est un excellent choix lors de la recherche d'une machine fiable et efficace pour optimiser l'épaisseur, l'uniformité et le contrôle des propriétés du film. Le contrôle avancé du procédé du P5000 offre une stabilité supérieure du procédé, une répétabilité du procédé et un contrôle exceptionnel des propriétés des films structuraux et compositionnels. Il est doté d'une tête de procédé Direct Drive Throttle (DDT), permettant un déplacement précis du substrat au cours du processus de dépôt. Ceci assure une uniformité et une épaisseur de film constante sur l'ensemble de la plaquette. Le P5000 dispose d'un équipement intégré de distribution de gaz qui est capable de supporter jusqu'à 3 gaz différents, chacun avec son propre débitmètre dédié. Ce système permet un contrôle précis et le mélange des gaz, permettant un contrôle précis du processus qui conduit à des films de haute qualité. De plus, le P5000 est conçu pour que les niveaux de contamination dans la chambre soient maintenus au minimum grâce à son unité de filtration autonome, qui filtre les particules potentielles dans la chambre avant qu'elles n'atteignent le substrat. Le P5000 offre également un certain nombre de fonctionnalités de sécurité avancées, y compris une machine de diagnostic embarquée unique (OBD). Cet outil surveille les composants électriques et de chambre de façon continue et fournit des commentaires détaillés et des données de processus en temps réel, des alarmes et des rapports. Le P5000 est devenu un haut de gamme du réacteur en raison de ses performances, sa fiabilité et son interface conviviale. Non seulement le P5000 est conforme aux exigences du processus, mais il peut également être utilisé pour faire pousser des films pour répondre à une variété d'applications, ce qui en fait un excellent choix pour une grande variété d'utilisateurs. Il convient de noter que le P5000 devrait être utilisé dans les zones où la ventilation est bonne, car l'amélioration de l'efficacité du procédé peut entraîner une augmentation des sous-produits et des émissions.
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