Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9213363 à vendre en France

AMAT P5000 Chamber est un réacteur sous vide ultra-haut utilisé pour le traitement de couches minces. Cette chambre de pointe est adaptée à tout type d'atmosphère, tandis que la variété et la flexibilité sont de série et permettent au réacteur de traiter différents substrats et procédés. Le réacteur lui-même est fabriqué en acier inoxydable, en aluminium et en cuivre sans oxygène, ce qui garantit des performances fiables et une qualité de vie. Avec les parois de la chambre UHV, le réacteur est également capable de traiter des matières difficiles et réactives en atmosphère inerte. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Chambre dispose également de composants spécialisés, tels que des éléments chauffants à deux zones et un réseau d'adaptation RF, pour assurer une performance optimale et les films minces désirés. La chambre peut fonctionner jusqu'à une température de 3000 degrés Celsius et a une plage de pression de travail de 1.3x10-10 mbar jusqu'à 1x10-6 mbar. Il peut créer des profils de température et de pression serrés dans toute la chambre pour une synergie entre les matériaux et un processus optimal. En outre, la chambre dispose également d'une capacité hybride de balayage indexé pour cibler uniformément les zones de substrat et d'un étage motorisé programmable complet pour accéder à l'ensemble du substrat. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Chambre est compatible avec une variété de sources et de systèmes d'introduction, y compris e-canon, Thermion, canon à ions, faisceau d'électrons, et source d'ions. Son diagnostic avancé, son système de pompage robuste et ses configurations flexibles en font un choix idéal pour toute application de fabrication de couches minces. La chambre est facile à installer et à entretenir, avec des contrôles et des diagnostics conviviaux qui simplifient les processus et les tâches. Avec ses nombreuses fonctionnalités avancées, AMAT P5000 Chamber est un réacteur fiable et polyvalent pour le traitement des couches minces. Il fournit une atmosphère de procédé optimale, des profils de température et de pression serrés, et une couverture de substrat uniforme dans une variété de procédés. En conséquence, ce réacteur peut aider à obtenir des composants en couches minces de haute qualité et des produits cohérents.