Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Chambers for Centura DPS II #293664214 à vendre en France

ID: 293664214
Parts to be removed: P/N / Description 4746896-0001-REF / Turbo pump 4715467-0001-REF / Bias match 4744307-0001-REF / Source match 4742800-0001-REF / Bias generator 4742799-0001-REF / Source generator 4744329-0001-REF / Helium controllers 4678617-0001 / Process manometer 1021020-0405 / Service manometer Various / Chamber boards 4746946-0001-REF / Turbo pump controller 4650875-0001-REF / High voltage module 4733410-0001 / TGV 4744185-0001 / End point AMAT DPS II Spectrograph SD1024 (0190-42853) 0190-29887 / Eyed IEP flash lamp, ROHS.
AMAT Centura DPS II est un réacteur simple wafer de haute performance qui offre aux utilisateurs un débit élevé et un temps de disponibilité maximal. Il est idéal pour la production de plaquettes de silicium de haute qualité destinées à l'industrie électronique. La machine dispose d'une technologie brevetée Dual Process, Single-Wafer Equipment (DPS), qui lui permet d'effectuer une variété de fonctions de processus sur une chambre de réacteur. Il est équipé de deux ensembles de chambres cylindriques, chaque chambre pouvant traiter jusqu'à 24 plaquettes. Les chambres sont robustes, flottantes et doubles, ce qui évite la contamination et les champs magnétiques parasites. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le Centura DPS II comprend quatre chambres distinctes, à savoir les chambres de serrure de charge, de procédé, de purge et de sortie. La chambre Load Lock est la première chambre dans laquelle une plaquette de silicium est chargée. Cette chambre est équipée d'une technologie de protection contre la contamination antimicrobienne, qui empêche les contaminants d'entrer dans le système. La chambre Process abrite l'unité de chauffage RF contrôlée avec des niveaux de puissance réglables et est conçue pour un rendement maximal avec une température de substrat uniforme dans toute la chambre. Cette chambre est également équipée d'un contrôleur de processus embarqué qui peut être utilisé pour configurer et contrôler les paramètres du processus. La chambre de purge est conçue pour éliminer en toute sécurité tous les gaz et particules de réaction restants, contribuant à assurer des résultats de processus propres. La chambre de sortie est conçue pour assurer le retrait sûr des plaquettes de la machine. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura DPS II est conçu avec des capacités de diagnostic et de surveillance avancées. Ce réacteur est équipé d'un calculateur de contrôle des processus (PCC), un calculateur de contrôle principal qui régit ses opérations. Le PCC dispose également de capacités de surveillance à distance, qui permettent aux utilisateurs de surveiller les performances du réacteur de pratiquement n'importe où dans le monde. L'outil offre également des diagnostics détaillés et des fonctions d'alarme qui garantissent une performance optimale de l'actif. En conclusion, AMAT Centura DPS II est un réacteur avancé monobloc conçu pour produire des plaquettes de silicium de haute qualité pour l'industrie électronique. Il est équipé de quatre chambres distinctes, chacune conçue pour un objectif spécifique et avec des capacités de diagnostic et de surveillance avancées. Il est conçu avec la dernière technologie de contrôle de processus et a la capacité d'effectuer une variété de fonctions de processus sur une chambre de réacteur.
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