Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CIP WPVD Chamber for Endura II #293666954 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS CIP WPVD Chamber for Endura II est une chambre de réacteur conçue pour fournir un dépôt chimique-ion-plasma en phase vapeur (CIP WPVD) pour un dépôt avancé très uniforme et répétable de couches minces pour le marché des semi-conducteurs. La chambre WPVD CIP est conçue pour fournir un environnement contrôlé avec précision afin de permettre un dépôt uniforme de couches minces sur différents substrats. La chambre comporte un boîtier cylindrique avec quatre fenêtres thermo-blindées en quartz permettant l'observation de l'intérieur de la chambre et permettant un dépôt uniforme de couches minces. La chambre WPVD CIP comprend divers instruments tels que des capteurs de température, de pression et de débit. La chambre CIP WPVD est utilisée pour le dépôt de divers matériaux en couches minces sur de larges plages de température, de pression et de puissance RF. Il a une capacité allant jusqu'à 3500 ° C et un taux de vide de 10-8 à 10-10 de torr. La chambre comprend un générateur RF et une bobine pour l'émission volumétrique d'électrons par champ RF avec un plasma à haute densité uniforme. Cette disposition assure un dépôt uniforme de couches minces dans la chambre en équilibrant la densité radiale du plasma pour maintenir une vitesse de dépôt optimale. La chambre WPVD CIP comprend également une capacité de chimie réactive gazeuse (GRC) pour permettre une fonctionnalité supplémentaire personnalisée pour améliorer la performance de dépôt des couches minces. En outre, il comprend un système modulable extensible pour améliorer facilement la chambre avec un nombre accru de sources de gaz, FI et prises IP. La chambre CIP WPVD a une conception robuste pour faciliter le fonctionnement et la maintenance. Il dispose d'un contrôleur basé sur écran tactile, d'un PC intégré pour le contrôle des processus, et d'un ensemble de ports configurables qui permet la connexion aux instruments de traitement et de calibration. La chambre dispose d'une capacité de surveillance matérielle intégrée qui fournit des données de processus en temps réel pour un paramétrage facile et un suivi des performances de la chambre. La chambre CIP WPVD est conçue pour fournir un revêtement conforme précis sur différents substrats et dispose d'un flux de processus unique qui permet un dépôt de couches minces supérieures. La chambre est adaptée aux plaquettes de 500 mm et de 300 mm et peut être utilisée pour des procédés tels que la gravure, le dépôt de diélectriques de haut k, le dépôt de nanowire MEMS et de couches minces. La chambre offre des performances supérieures pour les applications de comptage de broches élevées et convient au développement de nouveaux films minces et MEMS.