Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD #9214657 à vendre en France

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ID: 9214657
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
12" Includes: Make / Model / Description CTI CRYOGENICS / P300 / On-board cryopump AMAT/APPLIED MATERIALS / PVD / Controller GRANVILLE-PHILLIPS / 352 / Gauge & controller - / - / Machine controller SANYO DENKI / - / PM Driver - / 0010-04974 / Remote AC box - / 0100-00567 / Gas box distribution PCB - / - / CDN 396 Card - / - / CDN 391 Card - / - / PVD/IMP Chamber interlock card 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD est un outil de dépôt physique en phase vapeur (PVD) à haute performance pour les applications de pulvérisation, d'évaporation, de RTP, de gravure et d'implantation ionique. L'équipement permet un traitement polyvalent dans une chambre automatisée, offrant une répétabilité de processus inégalée et une uniformité répétable de l'épaisseur des couches sur de grandes surfaces de plaquettes. Cet outil est spécialement conçu pour le développement de matériaux avancés et l'analyse de processus. AMAT CPI-VMO Chamber Endura PVD comprend une source Magnetron VMO, un suscepteur multi-zone et un bouclier thermique multi-zone comme caractéristiques standard. La source Magnétron VMO est une source de pulvérisation à haut débit à simple extrémité pilotée par une alimentation en courant alternatif haute tension et haute fréquence. La source Magnetron VMO fournit un taux de pulvérisation uniforme sur la zone de la plaquette en utilisant des plates-formes média pour une opération de faible puissance d'entrée pendant les dépôts à long terme. Le suscepteur multi-zones est conçu pour chauffer ou refroidir sélectivement la zone cible pour éviter la rétrodiffusion ou la post-pulvérisation. En outre, le suscepteur multi-zones dispose de pignons réglables d'équilibrage de pression, qui aident au contrôle des processus et au chauffage uniforme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Chambre CPI-VMO Endura PVD comprend également des blindages thermiques multi-zones pour améliorer le confinement du plasma et des taux de dépôt uniformes sur une fenêtre de processus plus large. Les blindages thermiques multi-zones sont dotés de chicanes réglables et protègent la paroi du réacteur, permettant un contrôle précis du flux de dépôt à l'intérieur de l'outil. En outre, CPI-VMO Chamber Endura PVD comprend un système de contrôle automatisé avancé en temps réel avec analyse multivariable des processus. La surveillance en temps réel et l'unité TQM sans papier fournissent une rétroaction sur la performance des processus en temps réel. La puissante machine de contrôle embarquée comprend également la modélisation des processus, l'outil d'assurance de la qualité des passerelles et l'optimisation automatique des réglages pour l'optimisation des processus en temps réel. AMAT/APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD est conçu pour la fiabilité et les performances à long terme avec des années de pulvérisation à venir. Avec une combinaison unique de fonctionnalités et de technologie, cet outil est conçu pour produire des films de haute qualité rapidement et efficacement. AMAT CPI-VMO Chamber Endura PVD est le choix idéal pour ceux qui recherchent une solution PVD à long terme, fiable et économe en énergie pour les besoins de production et d'analyse.
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