Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS CVD Producer #9013333 à vendre en France

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ID: 9013333
APPLIED MATERIALS CVD Producer Split tool with (2) twin BPSG chambers, 8" Wafer size & type : 200mm, jmf ( no smif interface ) Chamber position : ch#a & ch#b Manometer : 20/1000torr Rps : mks Electrical information : 208v, 240a, 60hz Monitor : stand alone & through the wall Mainframe information: Mainframe type : shrinkage Robot : vhp dual robot Loadlock cassette : manual 2 cassette Ozone generator : ax8403 Loadlock pump : ipx100 Gas delivery: Mfc : unit 8161 Valve : fujikin 5 ra max Filter : millipore Transducer : mks w/o display Regulator : veriflo Single line drop : yes Gas line feed : bottom feed System cabinet exhaust : bottom Gas pallet ( ch#a & ch#b ): O2 20slm ufc8161 Nf3 3 slm ufc8161 Ar 5 slm ufc8161 He 20slm ufc8161 N2 20slm ufc8161 Teos 4000 lf-410a-evd Teb 500 lf-310a-evd Tepo 250 lf-310a-evd 2000 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS CVD Le producteur est un type de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces sur divers substrats. En tant qu'équipement de dépôt à haut débit, AMAT CVD Producer offre une homogénéité supérieure, un dépôt à grande vitesse et un contrôle précis des recettes, ainsi qu'un faible coût de propriété. MATÉRIAUX APPLIQUÉS CVD Producer est un système multi-chambres composé d'une chambre à vide, d'une unité de distribution de gaz et d'une source de chauffage. La chambre à vide est conçue pour être un environnement étanche permettant le dépôt de couches minces sans interférence ni introduction de contamination. La machine de distribution de gaz comprend des régulateurs de débit massique et des vannes pour assurer un contrôle précis de la composition du gaz de procédé. La source de chauffage est constituée d'un banc d'électrodes haute tension et d'un suscepteur de graphite, qui sont utilisés pour créer une température uniforme sur le substrat. Le processus de dépôt commence par l'évacuation de la chambre du réacteur. Une fois la pression atteinte, le gaz de procédé est introduit et chauffé. Ceci provoque une réaction qui conduit à un dépôt sur le substrat. On peut contrôler l'homogénéité et la vitesse de la réaction en ajustant le débit du procédé. le gaz et les mouvements du suscepteur. En outre, CVD Producer dispose d'un contrôle précis de la recette pour permettre l'optimisation du processus. AMAT/APPLIED MATERIALS CVD Producteur est utilisé dans une variété d'industries, y compris la recherche universitaire, la biotechnologie, la fabrication de semi-conducteurs et de photovoltaïques, et la production d'écrans. Il convient à un certain nombre de matériaux, dont l'oxynitrure de silicium et le nitrure de silicium, qui sont utilisés pour des couches de passivation dans des procédés de conditionnement avancés, et les revêtements antireflets à base de nitro « diamant noir » qui sont souvent utilisés dans les appareils électroniques grand public. En outre, d'autres applications comprennent le dépôt de diélectriques tels que le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et les métaux, par exemple le cuivre et le tungstène. AMAT CVD Producer est une alternative rentable aux systèmes traditionnels en raison de sa vitesse de dépôt rapide, de son contrôle précis et de ses capacités à haut débit. En outre, sa conception modulaire permet une installation et un fonctionnement simples, et son faible coût de possession en fait un choix attrayant pour ceux qui ont un budget serré. Enfin, sa compatibilité avec une variété de matériaux en fait un outil précieux pour la réalisation de couches minces de haute qualité.
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