Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293600548 à vendre en France
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ID: 293600548
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Etcher, 12"
Factory interface: FI 5.3
Centura AP Mainframe
RF Rack, 12"
Bias 2 RF generator rack
TOYOTA T100L LL/MF Dry pump
SHIMADZU TMP-3403LMC Turbo pump
DAIHEN RMN-50N6 matcher
Shower head assy, TKI SIC SGD, With Alum Plug, E5
12" Facilities interface box: wFIB, eFIB
Inner/Outer independent temperature control
Independent Gas injection: 2 gases for each step
Closer cooling and heating showerhead design
Power supply:
High bias RF power capacity: 7.5 kW (max combined power)
RF Frequency: 162 MHz Source, 13.56/2 MHz Bias
2008 vintage.
AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le catalyseur est un réacteur à haute performance en phase gazeuse utilisé pour la production de composants utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. AMAT Facilitateur a une conception unique qui utilise un procédé breveté à base de flux gazeux pour fournir une méthode efficace et fiable pour le dépôt de couches minces. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La chambre du catalyseur est fermée à l'atmosphère et remplie d'un gaz à base de silicium, typiquement composé de silane ou de disilane, qui est transféré dans la chambre du substrat. Le catalyseur est alors capable de contrôler la conductivité thermique et la température de gravure du substrat à l'aide d'un équipement intégré de gestion thermique. Ce système permet de contrôler avec précision la quantité d'énergie thermique utilisée pour créer l'épaisseur de film et les caractéristiques de gravure souhaitées. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le promoteur utilise un courant ohmique injecté dans une zone de décharge de plasma chauffé pour obtenir le procédé souhaité. Cette approche deux en un aide à améliorer la vitesse de dépôt et à minimiser la contamination des films. En outre, AMAT Facilitler est équipé d'une unité de remplissage rapide, permettant une commutation efficace entre les gaz de procédé. Cette fonctionnalité permet d'optimiser le processus en réduisant la non-uniformité du film, en améliorant l'uniformité et en produisant de meilleures performances du procédé. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le facilitateur est également équipé d'une machine de contrôle en boucle fermée pour maintenir la performance de l'équipement, l'uniformité de la température et la qualité du film à long terme. Cet outil de pointe surveille chaque étape du processus, y compris la génération de plasma, l'impact ionique et la pulvérisation. Cet atout permet également d'assurer un contrôle précis de la température sur l'ensemble de la chambre de traitement, ce qui est crucial pour la production de composants de haute qualité. En résumé, Facilitateur est un réacteur à plasma haute performance en phase gazeuse conçu pour produire des composants semi-conducteurs avec une plus grande vitesse et efficacité. AMAT/APPLIED MATERIALS Le facilitateur dispose d'un procédé unique qui combine l'injection de courant ohmique et la gestion thermique pour améliorer les performances du procédé et réduire la contamination. De plus, il utilise un modèle de contrôle avancé qui aide à maintenir l'uniformité de température à travers la chambre de traitement pendant la production. Grâce à ses caractéristiques avancées et ses performances fiables, AMAT Facilitler offre une méthode très efficace et fiable pour produire certains des composants semi-conducteurs les plus avancés en production aujourd'hui.
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