Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 DSTTN #9364585 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 DSTTN est un réacteur de pointe de dépôt chimique en phase vapeur dans l'atmosphère (APCVD) utilisé pour le traitement des matériaux dans les semi-conducteurs, les MEMS et d'autres industries. Sa dynamique de flux gazeux unique permet une uniformité des dépôts à des taux de dépôt plus élevés et une qualité ultime. La conception de la chambre monobloc crée une solution cycle-temps et rentable utilisée dans une variété de processus. AMAT Endura 2 DSTTN dispose de capacités de processus avancées comme un contrôle de recette sophistiqué, des débits de gaz précis, des prises de gaz multiples et un système de charge/déchargement. Il est doté d'une chambre de dépôt entièrement intégrée et verrouillée, permettant des procédés sensibles et des rendements élevés des dispositifs semi-conducteurs avancés. De plus, la conception exclusive de Dewar permet un fonctionnement à haute pression de gaz et un taux d'acceptation élevé des substrats. Le réacteur fonctionne en introduisant quatre charges gazeuses distinctes, chacune avec une chimie et un réactif différents. Ces gaz sont ensuite chauffés et leur composition modifiée par une plaque de dissipation de queue. En contrôlant avec précision la température, le débit et la composition, les matériaux exacts nécessaires à la sous-construction du dispositif peuvent être formés sur le corps du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 2 DSTTN est spécialement conçu pour réduire les sous-produits de réaction indésirables dans le processus de dépôt. En utilisant un mécanisme intégré de remontée du flux de gaz, on obtient des taux de conversion rapides et des dépôts sélectifs, ce qui conduit à des rendements plus élevés que les systèmes traditionnels. En outre, le réacteur intègre une technologie dynamique de contrôle des sources qui permet des revêtements de films précis à des températures de processus allant jusqu'à 1000 ° C Endura 2 DSTTN est l'outil idéal pour le développement rapide de dispositifs semi-conducteurs avancés, résultant en une production incomparable et à haut volume avec un contrôle total des processus. Sa chambre CVD de précision permet de réaliser des films ultra-minces pour des dispositifs complexes et très petits. De plus, la conception de Dewar permet une flexibilité et une répétabilité fiable à des températures allant jusqu'à 1000 ° C, garantissant des résultats de processus optimaux.