Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 SIP EnCoRe #158915 à vendre en France
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Vendu
ID: 158915
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
System, 8"
Number of Chambers: 5
Process capabilities:
Hot Al, SIP TTN, SiP Encore Cu, SIP Encore Ta(N) and CleanW
Application: Copper Barrier Seed
Wafer size range: 6" to 8"
Wafer set size: 8"
Chamber 1:
Enhanced Hot Aluminum
Standard Body Chamber
Mech Clamped chuck, Ti clamp ring
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: 12.9" Al A,P/N: 0020-26822
Chamber 2:
Ti Nitride
Wide Body Chamber
Elec. Chuck: Bias MCS ESC, SST cover ring
Wafer bias power supply, 13.56MHz 600 W,
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: SIP REV2, P/N: 0010-04065
Chamber 3:
SIP Encore Cu
Wide Body Chamber
Elec. Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti cover ring, cryo chilled
Wafer bias power supply, 13.56MHz 1250 W,
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: LP 8.8, P/N: 0010-12864
Chamber 4:
SIP Encore Ta(N)
Wide Body Chamber
Elec.Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti -Arc-Sp
Wafer bias power supply, 13.56MHz 600W, ICE RF Match
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet Type: Encore Rev 2, P/N:0010-14875
Chamber 5:
CleanW PVD
Wide Body Chamber
Elec. Chuck: MCS+ ESC, SST-Arc-Sp cover ring
CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe
Magnet type: PVD WII, P/N: 0010-11925
Interface Type: SECS RS-232
Elevator Type: Universal Manual with Rotate
External Cooling: Water Cooled
Accessories:
(3) CTI 9600 Compressor, p/n: 3620-01389, water cooled
(3) CTI Onboard Terminal, p/n: 3620-01553
(2) Neslab System III Heat Exchanger
(1) CTL Inc subzero chiller, Model: BCU-L310F1-AMAT
(1) Toyota T100L Dry Pump
(2) Toyata T600 Dry Pump
Other Information:
Buffer Chamber Position "A": Pass thru with clear plastic lid
Position "B": Cooldown with temp monitor
Position "D": Reactive Preclean, Leybold TMP
Position "E" Orienter degas with temp feedback
Position "F" Orienter degas with temp feedback
Wide Body Loadlocks with variable speed soft vent
VHP Transfer Robot with HTHU compatible blade
HP+ Buffer Robot with with original metal blade
50' Cable harness
SMIF Integrated Tool Control
#NB: Asyst SMIF Loader sold as option.
Power Requirements: 480 V, 500.0 A, 60 Hz, 3 Phase
CE Marked: yes
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 SIP EnCoRe est un réacteur de pointe conçu pour fournir des performances supérieures et un fonctionnement simplifié dans une variété de processus de modules - de la croissance épitaxiale efficace Si, la croissance épitaxiale sélective (SEG) à l'oxydation et le dépôt de nitrure de silicium. Le 5500 SIP EnCoRe utilise la technologie AMAT Next Generation Thermal Control (NTCT), qui calme la variabilité des processus en permettant un contrôle complet de toute la gamme thermique. Ceci est réalisé grâce aux algorithmes avancés de contrôle de la température de NTCT, permettant au réacteur de réguler avec précision la chambre de procédé de 4 ° C à 1200 ° C en secondes. Le 5500 SIP EnCoRe est alimenté par sa source exclusive de plasma à couplage inductif (ICP), conçue pour maximiser la flexibilité et le contrôle du processus. Le système ICP peut être utilisé pour créer des feuilles de plasma très homogènes, avec une stabilité de processus maintenue sur des tailles de substrat variables. Ces fonctionnalités permettent à l'utilisateur d'ajuster la puissance, la pression totale et le biais d'abonnement en fonction des exigences de l'application, garantissant la capacité d'adaptation et la fiabilité. Le réacteur présente également une conception de loadlock qui permet une étanchéité rigide entre la chambre de transfert, la chambre de chargement et la chambre de procédé. Cela réduit la contamination potentielle, le risque de production de particules et simplifie la transition entre les différents processus. De plus, le 5500 SIP EnCoRe prolonge la vie de l'outil avec un mécanisme breveté d'atténuation de l'érosion, qui maintient la chambre du réacteur propre par rotation et vitesse réglable. Pour la surveillance des processus, le 5500 SIP EnCoRe dispose de plusieurs capacités de détection intégrées. La conception comprend plusieurs capteurs et un système de détection, qui permettent de mesurer la température radiométrique, de surveiller la pression de base, de mesurer l'épaisseur de la couche de dépôt et de signaler une faible utilisation des gaz. Tous ces paramètres sont automatisés et suivis, assurant une approche adaptée aux applications respectives des utilisateurs. AMAT Endura 5500 SIP EnCoRe est l'outil de gravure aux ions réactifs idéal pour optimiser la flexibilité du processus et le contrôle de la qualité. Offrant une précision de température supérieure, une faible contamination et une détection intégrée, le système se compose d'une série de fonctionnalités avancées conçues pour améliorer le contrôle des processus et réduire les coûts.
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