Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 SIP EnCoRe #158915 à vendre en France

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ID: 158915
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
System, 8" Number of Chambers: 5 Process capabilities: Hot Al, SIP TTN, SiP Encore Cu, SIP Encore Ta(N) and CleanW Application: Copper Barrier Seed Wafer size range: 6" to 8" Wafer set size: 8" Chamber 1: Enhanced Hot Aluminum Standard Body Chamber Mech Clamped chuck, Ti clamp ring CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: 12.9" Al A,P/N: 0020-26822 Chamber 2: Ti Nitride Wide Body Chamber Elec. Chuck: Bias MCS ESC, SST cover ring Wafer bias power supply, 13.56MHz 600 W, CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: SIP REV2, P/N: 0010-04065 Chamber 3: SIP Encore Cu Wide Body Chamber Elec. Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti cover ring, cryo chilled Wafer bias power supply, 13.56MHz 1250 W, CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: LP 8.8, P/N: 0010-12864 Chamber 4: SIP Encore Ta(N) Wide Body Chamber Elec.Chuck: SLT FDR E-Chuck, Ti -Arc-Sp Wafer bias power supply, 13.56MHz 600W, ICE RF Match CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet Type: Encore Rev 2, P/N:0010-14875 Chamber 5: CleanW PVD Wide Body Chamber Elec. Chuck: MCS+ ESC, SST-Arc-Sp cover ring CTI Onboard Cryo, fast regen, low vibe Magnet type: PVD WII, P/N: 0010-11925 Interface Type: SECS RS-232 Elevator Type: Universal Manual with Rotate External Cooling: Water Cooled Accessories: (3) CTI 9600 Compressor, p/n: 3620-01389, water cooled (3) CTI Onboard Terminal, p/n: 3620-01553 (2) Neslab System III Heat Exchanger (1) CTL Inc subzero chiller, Model: BCU-L310F1-AMAT (1) Toyota T100L Dry Pump (2) Toyata T600 Dry Pump Other Information: Buffer Chamber Position "A": Pass thru with clear plastic lid Position "B": Cooldown with temp monitor Position "D": Reactive Preclean, Leybold TMP Position "E" Orienter degas with temp feedback Position "F" Orienter degas with temp feedback Wide Body Loadlocks with variable speed soft vent VHP Transfer Robot with HTHU compatible blade HP+ Buffer Robot with with original metal blade 50' Cable harness SMIF Integrated Tool Control #NB: Asyst SMIF Loader sold as option. Power Requirements: 480 V, 500.0 A, 60 Hz, 3 Phase CE Marked: yes 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 SIP EnCoRe est un réacteur de pointe conçu pour fournir des performances supérieures et un fonctionnement simplifié dans une variété de processus de modules - de la croissance épitaxiale efficace Si, la croissance épitaxiale sélective (SEG) à l'oxydation et le dépôt de nitrure de silicium. Le 5500 SIP EnCoRe utilise la technologie AMAT Next Generation Thermal Control (NTCT), qui calme la variabilité des processus en permettant un contrôle complet de toute la gamme thermique. Ceci est réalisé grâce aux algorithmes avancés de contrôle de la température de NTCT, permettant au réacteur de réguler avec précision la chambre de procédé de 4 ° C à 1200 ° C en secondes. Le 5500 SIP EnCoRe est alimenté par sa source exclusive de plasma à couplage inductif (ICP), conçue pour maximiser la flexibilité et le contrôle du processus. Le système ICP peut être utilisé pour créer des feuilles de plasma très homogènes, avec une stabilité de processus maintenue sur des tailles de substrat variables. Ces fonctionnalités permettent à l'utilisateur d'ajuster la puissance, la pression totale et le biais d'abonnement en fonction des exigences de l'application, garantissant la capacité d'adaptation et la fiabilité. Le réacteur présente également une conception de loadlock qui permet une étanchéité rigide entre la chambre de transfert, la chambre de chargement et la chambre de procédé. Cela réduit la contamination potentielle, le risque de production de particules et simplifie la transition entre les différents processus. De plus, le 5500 SIP EnCoRe prolonge la vie de l'outil avec un mécanisme breveté d'atténuation de l'érosion, qui maintient la chambre du réacteur propre par rotation et vitesse réglable. Pour la surveillance des processus, le 5500 SIP EnCoRe dispose de plusieurs capacités de détection intégrées. La conception comprend plusieurs capteurs et un système de détection, qui permettent de mesurer la température radiométrique, de surveiller la pression de base, de mesurer l'épaisseur de la couche de dépôt et de signaler une faible utilisation des gaz. Tous ces paramètres sont automatisés et suivis, assurant une approche adaptée aux applications respectives des utilisateurs. AMAT Endura 5500 SIP EnCoRe est l'outil de gravure aux ions réactifs idéal pour optimiser la flexibilité du processus et le contrôle de la qualité. Offrant une précision de température supérieure, une faible contamination et une détection intégrée, le système se compose d'une série de fonctionnalités avancées conçues pour améliorer le contrôle des processus et réduire les coûts.
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