Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190624 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur polyvalent conçu pour une large gamme d'applications sur le marché des semi-conducteurs. Il est utilisé dans divers procédés tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la gravure, l'oxydation et la diffusion. AKT Endura 5500 est un équipement de traitement thermique avec une capacité de traitement thermique rapide in situ et une uniformité de température inégalée. Il a une plage de température élevée allant jusqu'à 1700 ° C (3100 ° F), ce qui le rend adapté à une gamme de matériaux semi-conducteurs avancés. Le réacteur est conçu avec une capacité à double plasma pour améliorer le contrôle du processus de dépôt des matériaux. Ce réacteur présente également une technologie de dépôt par faisceau d'ions pour une uniformité de dépôt précise sur la plaquette. AMAT ENDURA 5500 a une capacité de plaquette de 5,7 pouces et est équipé de deux zones de chauffage indépendantes. Cela permet de meilleures chances d'obtenir un profil thermique uniforme sur la plaquette. AMAT Endura 5500 est également équipé d'un suscepteur en graphite, qui offre une excellente gestion thermique et l'uniformité. AKT ENDURA 5500 dispose également d'un contrôle automatisé des processus avec un système informatisé et un logiciel dédié et facile à utiliser. Cette unité fournit des performances de processus cohérentes et un temps de processus plus rapide, tandis que ses porte-plaquettes électrostatiques fournissent un haut niveau de planéité de la plaquette et une excellente uniformité. D'autres caractéristiques clés de l'Endura 5500 comprennent une machine de transfert de cassette à cassette et une fonction de cartographie intégrée des plaquettes pour la cartographie précise des plaquettes. En outre, le réacteur dispose d'une chambre de revêtement conforme qui offre une qualité de revêtement conforme améliorée pour les matériaux de faible k. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur ENDURA 5500 possède un niveau de régulation de température et d'uniformité inégalé, leader dans l'industrie, qui offre une performance optimale pour diverses applications. Il est idéal pour le traitement d'une variété de matériaux, y compris des matériaux avancés pour les dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération. Sa conception robuste et sa technologie de pointe, ainsi que sa facilité d'utilisation, en font un choix privilégié pour les applications semi-conductrices.