Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #194704 à vendre en France
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Vendu
ID: 194704
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1993
Sputtering system, 8"
Wafer size: 8" flat (not notch)
Process: AlCu/ TiN/Ti
Configuration:
Chamber 1: AlCu
Chamber 2: TiN
Chamber 3: Ti
Chamber 4: Ti
Chamber 5: cooling chamber
Preheat
Etch
Clamp (not electrostatic chuck)
Robot:
Buffer: AMAT HP, ceramic blade
Transfer: AMAT HP, metal blade
System monitor:
1: stand alone
2: through the wall
3: stand alone
Includes (1) each monitor rack
Load lock:
Narrow body with tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber A:
- Chamber type: Pass through
- Chamber Lid: Metal Lid
- Cooling method: NA
Chamber B:
- Chamber type: Cool down
- Chamber Lid: Metal lid
- Cooling method: By PCW
Chamber D:
- Chamber type: Preclean I
Chamber F:
- Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1:
- Chamber type: Standard body
- Chamber process: AlCu, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE
- RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-70086
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 2:
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: TiN
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase
- Source(Lid) type : UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 3:
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: Ti
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 4:
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Includes:
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas
Installed
1993 vintage.
Le réacteur AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura série 5500 est un outil de pointe pour la gravure et le dépôt de plasma. AKT Endura 5500 est conçu pour offrir une fonctionnalité et une précision supérieures, ainsi qu'un faible coût de propriété et d'entretien - le tout dans un système compact et facile à utiliser. AMAT ENDURA 5500 offre une gamme complète de services de gravure et de dépôt en termes de flexibilité et d'uniformité des procédés sur une large gamme de recettes. Des fonctionnalités comme la technologie brevetée de contrôle d'uniformité, Ultra High Plasma avancé, et le contrôle de temps de gravure permet aux utilisateurs d'optimiser leur processus pour obtenir des performances supérieures. ENDURA 5500 offre également une gamme exceptionnelle de caractéristiques de sécurité et d'environnement qui en font un choix idéal pour les opérations en laboratoire et au niveau de la production. Le procédé Ultra-Flow innovant, l'optimisation thermique et le contrôle dynamique de la pression protègent les substrats de l'exposition à des températures élevées et aux matériaux corrosifs, tout en garantissant des résultats cohérents. Le système dispose d'une gamme impressionnante d'outils pour améliorer encore ses performances et sa précision. Endura 5500 est capable d'utiliser du matériel spécial, tel que des émetteurs de faisceaux d'électrons linéaires (LEB), des sources hyperfréquences et des sources de faisceaux d'ions, selon l'application. Il est également capable d'utiliser des matériaux de source optimisés, la puissance de la source et les fonctions de gestion des turbulences pour maximiser la répétabilité et l'uniformité des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La conception haute performance d'Endura 5500 combinée à sa facilité d'utilisation et à sa large gamme de caractéristiques de sécurité en font un choix idéal pour une variété d'applications de gravure et de dépôt de plasma. Le réacteur est très fiable et économe en énergie, fournissant des résultats cohérents avec un faible coût de propriété et de maintenance. De plus, il est livré avec un ensemble complet de soutien après-vente d'AMAT, offrant aux utilisateurs la tranquillité d'esprit que leurs équipements resteront opérationnels pendant des années à venir.
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