Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #293819415 à vendre en France
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ID: 293819415
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2019
PVD System, 8"
(2) Chambers
(2) Monitors
Wafers run: 50000
2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur conçu pour être utilisé dans l'industrie microélectronique. Ce réacteur fournit une solution idéale pour le traitement des gravures, permettant aux clients de personnaliser leurs processus de production de manière rentable et efficace dans le temps. Il utilise un principe de décalage, ce qui signifie qu'il peut transférer un élément de transfert à des processus de gravure complets pour plusieurs domaines d'application, économisant du temps et de l'argent. AKT Endura 5500 offre deux niveaux de chambre. La première chambre abrite les systèmes d'alimentation en cathode et en gaz à base de magnétron, et la seconde contient le poste de couchage ou de coulée de plasma optionnel. Un système intégré de polarisation du substrat est également disponible pour un contrôle et une précision supplémentaires. Le réacteur est sous vide uniforme de 100 Torr et peut fonctionner à des températures allant jusqu'à 350 ° C Il utilise le transport capillaire à pression atmosphérique de la pièce et une seule source d'électrons à filament pour la production de plasma. La précision et la précision d'AMAT ENDURA 5500 créent un environnement contrôlé pour effectuer une variété de processus, y compris le dépôt, la gravure et le nettoyage. Ce réacteur comprend également un certain nombre de caractéristiques de sécurité, dont une fenêtre RF en PVC résistante chimiquement et à faible charge, ainsi que des structures en joint torique uniques qui protègent l'intérieur de l'exposition à des dommages chimiques et physiques. Il dispose également d'anneaux de garde pleine longueur pour se protéger contre les arcs électriques. Endura 5500 est une solution de gravure polyvalente et économique pour l'industrie microélectronique. Sa conception robuste et fiable offre une foule de caractéristiques pour le processus de gravure ultime. Les processus et paramètres peuvent être facilement modifiés et configurés en fonction des besoins du client, ce qui fait de ce réacteur un choix sûr pour un large éventail d'applications.
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