Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9036092 à vendre en France

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Photo Utilisé AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 À vendre
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Vendu
Réacteurs
Fabricant
AMAT / APPLIED MATERIALS
Modèle
Endura 5500
ID: 9036092
PVD System, 8" Wafer handling: SMIF Front panel type: wide body Software version: B88810 Single board computer in controller: Yes Ion gauges: Yes Robots (standard, HP, HP+, VHP, etc): Buffer robot: HP+ Transfer robot:HP+ Blade material: Metal Blade material: Metal Load Lock: Wide Body Narrow Body: tilt-out Index handler type: Loadlock vents: N2 vent Basic Chamber setup: (PC II, Cooldown, O/D, pass through, CVD, other - w/o details) A: Cool down B: Cool down C: Pre clean II D: Pre clean II E: Orient / Enhanced degas F: Orient / Enhanced degas Process: VECTRA IMP Ti Platform: Endura RF coil power supply: Advance Energy HFV 8000 Chamber temperature: Heater 100°C - Bake 30% Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib MFC #1: Argon Heater MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 50 Sccm MFC #2: Argon Final MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm Source type: Vectra IMP Target type / vendor: D-Bond 0.25" - Honeywell Target part # 7VX00236 Coil part # 7VX20266 Magnet type / part number: Type RH-2 P/N 0010-21676 Ar Psi: 20 PSI Power supply: MDX 12KW Shutter: Linkage Heater: Original 4F Process Kit (type/desc): IMP Process Kit Version 4.5 Upper Shield Part No: 0020-22498 Lower Shield Part No: 0020-22499 Shield Clamp Kit Part No: 0240-25440 DC Bias Hardware Kit PN: 0240-20021 Process: CVD TiN Platform: ENDURA Chamber temperature: 400°C Chamber type: TxZ HP+ Heater: AMAT P/N 0010-03244 Pump Type: ALCATEL 602 P HX: AMAT 1 HX temperature: 60°C MFC #1: Argon Edge Purge MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 3000 Sccm MFC #2: Argon BTPur MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 2000 Sccm MFC #3: He Carrier MFC #3 type / size: Stec SEC-4400M 500 Sccm MFC #4: N2 Dil MFC #4 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm MFC #5: He Dil MFC #5 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm MFC #6: N2 MFC #6 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm RF Power supply: ADVANCE ENERGY PDX 900-2V HE carrier pressure: 18 PSI HE DIL pressure: 30 PSI Ampole temperature: 50°C Gas line temperature: 60°C Hot Box: 70°C CVD Ion gauge: Absent Process Kit (type/desc) INSERT LINER EXHAUST TXZ 200MM: 0021-02469 RING, LOWER, ISOLATOR: 0021-02155 RING, MIDDLE, ISOLATOR: 0021-02156 EDGE RING, PURGE HEATER, 200MM TXZ: 0021-03094 SCREW, CENTERING PURGE HEATER 200MM TXZ: 0021-07418 OUTER SHIELD W/O WINDOW, TXZ CHAMBER: 0021-03980 INNER SHIELD HP TXZ IMP. UNIF.: 0040-06127 PIN, LIFT, TXZ HEATER: 0200-01798 PLATE,BLOCKER,TXZ 200MM: 0021-35744 FACE PLATE, BKM3 TXZ 200MM: 0040-01878 CHAMBER INSERT 200MM TXZ CIP: 0200-00261 ISOLATOR, SIN, ENH, PUMPING LID, DXZ GECO: 0200-10163 TUBE GAS FEED: 0020-31425 LID LINER, HPTXZ: 0200-00689 Process: PVD TiN Platform: ENDURA Ch temp control: Without temp control Chamber type: WB Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib MFC #1: Argon MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm MFC #2: N2 MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 200 Sccm Source type: G-12 Target type / vendor: D-Bond 0.35" - Praxair Target part #: 7VX00135 Magnet type / part number: Type G-12 P/N 0010-20768 N2 Psi: 20 PSI Ar Psi: 20 PSI Power supply: MDX - L12M - 650 Shutter: Linkage Heater: SST Pedestal Unclamped 101 Process Kit (type/desc): Shield Mounting G12 btn hd Upper Shield Part No: 0020-25730 Lower Shield Part No: 0020-25077 Pedestal Part No: 0021-22028 Cover Ring Part No: 0020-24914 Process: Pre-clean Pedestal type: Preclean II Pik1 Power supply 1: 400 KHz Power supply 2: 13.56 MHz Gasline fittings: VCR Loadlock fittings: VCR MFC type: Millipore / STEC Paste chamber: NA Chamber cryo pump type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib Umbilicals: Mainframe to controller: ~25 ft Mainframe to generator racks: ~25 ft Mainframe to cryo compressor: ~25 ft Main AC to system controller/sys. AC: ~25 ft Syst cont/sys AC to primary Gen rack: ~25 ft Main AC to primary generator rack: ~25 ft Main AC to pump frame: ~25 ft Main AC to Neslab heat exchanger: ~25 ft Monitor cable: ~25 ft Monitor2 cable: ~25 ft Monitor3 cable: ~15 ft EMO button guard ring: Yes Water leak detector: yes Buffer and transfer lid hoist: Yes Support Equipment: AMAT 0 Heat exchanger 0010-76467 Cryo compressors: (2) CTI Cryo pump 1 8135900G001 Neslab with resistivity meter Soft copy pdf manuals Currently in a fab 2003 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor est un outil polyvalent avancé et économique qui fournit des exigences de performance améliorées pour des processus de fabrication de plaquettes exigeants. Ce réacteur est capable de fournir un environnement fiable et uniforme lors des processus de gravure et de dépôt. AKT Endura 5500 Reactor est spécialement conçu pour les opérations simples, doubles et multi-chambres, utilisant un équipement sous vide avancé avec une distribution de gaz supérieure et une variété d'options. AMAT ENDURA 5500 est construit avec un design compact qui nécessite un minimum d'espace et prend moins de 3 mètres cubes, ce qui lui permet de s'intégrer facilement dans tout processus de production. AKT ENDURA 5500 permet un positionnement facile dans trois directions dimensionnelles, ce qui le rend plus efficace et plus facile à installer et à exécuter. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'Endura 5500 dispose également d'un système de refroidissement unique qui permet un débit et un refroidissement plus rapides entre les courses. Cet outil multifonctionnel offre également des options pour les processus de gravure et de dépôt. Endura 5500 comprend une conception modulaire de gravure et de chambre de dépôt qui permet d'effectuer le dépôt au fur et à mesure de la gravure dans le même espace. Cette caractéristique polyvalente permet de réaliser une grande variété de procédés au sein d'un même réacteur. L'Endura 5500Reactor offre un faible coût et un faible entretien avec d'excellentes performances et durabilité. Son unité de distribution de gaz se prête à une augmentation du débit et à une amélioration du rendement du produit. Les hautes capacités d'AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 améliorent la qualité et la répétabilité tout en éliminant les effets de bord des plaquettes. ENDURA 5500 est livré avec une large gamme d'options de contrôle qui fournit un haut niveau de contrôle et de précision pour les processus de gravure et de dépôt. Le réacteur comprend à la fois une machine de contrôle de processus et un panneau d'opérateur pour plus de commodité. L'outil de contrôle peut gérer plusieurs paramètres de processus avec un développement rapide du processus, des performances élevées et la précision. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Les caractéristiques avancées et le design compact d'ENDURA 5500 en font le choix idéal pour un certain nombre d'applications. Sa flexibilité et sa facilité d'installation lui permettent d'être intégré dans n'importe quel processus tout en offrant des résultats optimisés et des performances exceptionnelles. Le réacteur peut traiter n'importe quel processus de gravure au dépôt avec un faible coût, une répétabilité élevée, et un débit amélioré.
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