Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9048796 à vendre en France

AKT AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur de pointe de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour offrir un moyen efficace et rentable de déposer des couches minces d'oxyde de silicium, de nitrure et d'autres matériaux sur des substrats de différentes tailles. L'AKT Endura 5500 permet aux ingénieurs du secteur des semi-conducteurs, de l'affichage à écran plat, de l'optique et du photovoltaïque d'offrir des capacités supérieures d'uniformité, de répétabilité et de fabrication à haut débit. AMAT ENDURA 5500 fournit un processus de dépôt de haut niveau et de haute productivité qui excelle au-delà des limites traditionnelles des produits. Ses capacités de revêtement en couches minces sous-nano, ainsi que sa technologie unique de dépôt par plasma, permettent aux ingénieurs d'optimiser l'uniformité des films sans sacrifier le débit. L'empreinte compacte d'AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 et les faibles coûts d'installation permettent aux ingénieurs de procédé d'économiser de l'espace précieux tout en atteignant des critères de performance ciblés. La pièce maîtresse de l'architecture d'ENDURA 5500 est le système de surveillance des processus (PMS), une suite de surveillance propriétaire qui peut surveiller les conditions de processus telles que la pression du processus, l'énergie ionique, la température et la composition du film. Ce système dispose également de capacités de contrôle de rétroaction en boucle fermée, assurant la stabilité du processus pour produire des performances uniformes et répétables temps après temps. Les capacités de fabrication robustes de APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 sont rendues possibles par son design innovant - composants haut de gamme, matériaux de pointe, et une précision de production supérieure avec une attention claire aux détails. Sa source de réacteur à double chambre est conçue pour une variété de configurations de substrat, et son système de gestion du gaz permet un contrôle fiable et uniforme des processus. L'alimentation électrique intégrée facultative produit une puissance maximale de 13 MHz jusqu'à 1000-Watts avec un minimum de dérapage/dérive, assurant une uniformité de puissance optimale et une puissance minimale et une dégradation des composants. Les caractéristiques avancées et la robustesse technique de l'Endura 5500 en font un choix de choix parmi les ingénieurs avancés et à haut volume. Ses technologies de pointe et sa capacité de performance supérieure permettent le dépôt de films avec une homogénéité et une répétabilité supérieures aux niveaux d'épaisseur des nanocouches, ce qui en fait le meilleur choix pour les procédés de dépôt multi-matériaux à forte demande. Au total, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 est un réacteur avancé PECVD conçu pour fournir des capacités de traitement rentables, répétables et fiables pour une large gamme d'applications semi-conductrices, écran plat, optiques et photovoltaïques.