Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9078245 à vendre en France
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Vendu
ID: 9078245
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
System, 8"
Wafer Transfer:
Loadlock Type: NB, Tilt-Out
Buffer Robot Type: HP
Transfer Ch Robot Type: HP
Ch#A: Cool-down
Ch#B: Cool-down
Ch#C: PC-II
Ch#D: None
Ch#E: Ori/Degas
Ch#F: Ori/Degas
Chamber 1:
Chamber Process: AL
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: NB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
Chamber 2:
Chamber Process: Ti
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: WB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
Chamber 3:
Chamber Process: AL
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: NB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
Chamber 4:
Chamber Process: Ti
Wafer Chuck: 101
Chamber Body: WB STD
Wafer Heater: Moterize/101 Pedestal
Cryo Pump: 2 Phase
Gate Valve: 2 Position
AC Power:
60 Hz
480V/208V TRSF
Generater Rack:
1st & 2nd
L12 X 2, 20K X1, 10K X2
(2) Cryo compressors: 9600
Pump:
System: QDP40
PC-II QDP40+250RB
Chiller:
Model: Neslab-III
Signal Cable: 50ft STD
1995 vintage.
Le réacteur AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la recherche et la production de matériaux organiques à couches minces. Ce système réactionnel est très polyvalent et a la capacité de produire des couches minces de divers matériaux, tels que des diélectriques, des semi-conducteurs, des films organiques, des matériaux de barrière et des matériaux magnétiques. AKT Endura 5500 utilise une conception modulaire qui est à la fois rentable et économique, sa chambre ne nécessitant que 2 pieds par 3 pieds d'espace au sol. La chambre du réacteur AMAT ENDURA 5500 offre une puissante unité de contrôle du débit de gaz idéale pour les processus de dépôt complexes. Une série de vannes de mélange de gaz permettent de contrôler la température et la pression à l'intérieur de la chambre, de sorte que des taux de dépôt élevés peuvent être atteints avec un minimum d'utilisation de gaz. Les réglages des vannes de refoulement peuvent être réglés automatiquement en fonction de la température souhaitée pour le processus de dépôt. La température peut varier de la température ambiante à un maximum de 700 ° C De plus, la pression peut être ajustée de quelques millibars à la pression atmosphérique. Le réacteur AMAT Endura 5500 offre également un contrôle précis des matériaux à couches minces. Il utilise une machine de contrôle d'épaisseur en temps réel qui peut mesurer l'épaisseur des couches minces jusqu'à 5 microns avec une précision de 0,1 microns. Cet outil de surveillance permet des mesures rapides et rapides avec un contrôle de qualité optimal des matériaux déposés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura 5500 utilise une technologie de gravure réactive dirigée (DRE) qui permet un traitement à haut débit. Cette technologie utilise un faisceau d'ions aérosols pour graver avec précision des couches du substrat et réaliser ainsi des couches de film d'épaisseur submicronique. Le procédé DRE permet également un contrôle précis de la microchimie du matériau dans le procédé de dépôt de film, ce qui le rend idéal pour les recherches nanomatériales. De plus, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 offre une maintenance simpliste. La conception modulaire de l'actif permet aux techniciens de service de faciliter l'accès et le nettoyage, ainsi que le retrait et le remplacement des composants. Le réacteur Endura 5500 est construit avec des dispositifs de sécurité pour la protection du modèle et des opérateurs, tels qu'un équipement de contrôle automatique de la pression et des portes coulissantes. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 est un système CVD fiable et à haut débit qui offre aux chercheurs et aux travailleurs de la ligne de production une flexibilité et une précision avancées dans le dépôt des matériaux. Il offre un excellent contrôle des paramètres tels que la température, la pression, la micro-chimie et les nanomatériaux, permettant un contrôle optimal et des sorties de qualité.
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