Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9101660 à vendre en France

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ID: 9101660
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
MOCVD System, 8" Process: one Magnetron was Cu Gasses: Ar, N2, O2 for process (2) Standard body chambers (2) Wide body chambers (1) TxZ chamber with no source lid and partial CVD gas box parts Standard body chambers: No adapter or source lids (no magnetrons) Wide body chambers: (1) Dish target magnetron source (one missing) H2O Cooled (2) Narrow body loadlocks (2) Stnd clamped heater for standard body chambers (2) HTHU heaters for wide body chambers (1) TxZ heater All cryos are standard Endura CTI onboards Currently crated in a warehouse 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur de pointe à dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD) conçu pour répondre aux exigences de performance actuelles dans une variété d'applications de recherche et de fabrication. Utilisant la technologie brevetée « High-Performance », cet équipement économe en énergie fournit un environnement sûr, répétable et fiable. La conception modulaire permet de configurer le réacteur aux besoins spécifiques d'une application. La conception intègre une robotique puissante « environnement contrôlé » assurant un chargement et une manipulation précis, reproductible et efficace du substrat. AKT Endura 5500 utilise des technologies de gestion thermique efficaces pour des résultats de processus uniformes et reproductibles. L'architecture flexible du procédé est capable de supporter une variété de matériaux tels que les métaux monocouches et multicouches, les oxydes, les nitrures, le silicium et le dioxyde de silicium. L'environnement LPCVD produit uniformément et rapidement des couches de couches minces hautes performances sur une variété de tailles de plaquettes. La zone de traitement est conçue pour être isolée des conditions extérieures et hautement répétable, en utilisant des régulateurs de pression à chambre dynamique et une gestion efficace de la chaleur. La gamme de température embarquée dans AMAT ENDURA 5500 s'étend de 20C à 1000C pour des vitesses de dépôt précises et une épaisseur de couche uniforme. Le système est conçu pour répondre aux exigences spécifiques des clients, permettant un contrôle précis de la température dans une gamme donnée. La plate-forme d'automatisation de haute précision permet de charger et de manipuler des substrats de taille plus petite ou plus grande pendant le traitement pour une plus grande flexibilité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité ENDURA 5500 comprend également une variété d'outils intégrés, tels qu'une machine avancée de surveillance des processus pour prévenir la contamination des particules et un outil puissant de manutention des matériaux. L'actif de surveillance du processus comporte des alertes pratiques, vous permettant de faire rapidement des ajustements lorsque les paramètres du processus sont en dehors des limites établies. Le modèle intégré de manutention fournit des matériaux de processus précis et reproductibles. L'équipement comprend également une technologie de pulvérisation de particules ultra-faible pour minimiser la propagation de particules dangereuses, assurant un substrat propre et sûr. En outre, Endura 5500 offre une fiabilité et une répétabilité accrues grâce à des systèmes de contrôle automatisés. Dans l'ensemble, l'AMAT Endura 5500 est une chambre LPCVD puissante et fiable conçue pour optimiser un large éventail de processus pour un contrôle précis, un débit et une efficacité accrus. Avec sa sécurité intégrée, son contrôle dynamique de la température, sa surveillance avancée des processus et son système intuitif de manutention des matériaux, l'unité offre un dépôt fin précis, sûr et reproductible.
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