Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9112164 à vendre en France
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Vendu
ID: 9112164
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
PVD System, 8"
Process: STD AL/TiN
Wafer type: SNNF
Buffer robot: HP
Transfer robot: HP
Wide body load lock with auto-tilt in/out
Sliding sensor kit: no
Chambers A/B:
Chamber type: cool down
Chamber lid: metal lid
Cooling method: By PCW / By Gas
Chamber C:
Chamber type: empty
Chamber process: PCII
RF generator / DC power supply 1: LF-10
RF generator / DC power supply 2: CPS-1001
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: 361C
Chamber D: -
Chamber E: Orient / Degas
Chmaber F: Orient / Degas
Chamber 1:
Chamber type: STD body
Chamber process: TiN
RF generator / DC power supply 1: MDX-L12
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
Chambers 2:
Chamber type: wide body
Chamber process: AL
RF generator / DC power supply 1: -
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
Chambers 3:
Chamber type: wide body
Chamber process: AL
RF generator / DC power supply 1: MDX-L12
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
Chamber 4:
Chamber type: STD body
Chamber process: TI
RF generator / DC power supply 1: -
RF generator / DC power supply 2: -
RF generator / DC power supply 3: -
Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F
1999 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor est un équipement de dépôt multi-chambres performant utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est capable de réaliser un large éventail d'applications de procédés avec divers substrats, y compris des dépôts d'oxyde, de nitrure et de métal. L'AKT Endura 5500 fournit un contrôle très précis de l'uniformité de l'épaisseur, de la conformité des caractéristiques et des étapes couche à couche avancées pour la fabrication de dispositifs de pointe. AMAT ENDURA 5500 dispose d'un système de vide avancé et d'une unité de livraison de produits chimiques recyclés très efficace pour minimiser les coûts d'exploitation globaux et l'impact environnemental en améliorant l'efficacité énergétique, l'uniformité, la réduction de la pression de la machine et l'élimination des sous-produits gazeux nocifs. Il est également capable de fournir un outil de distribution de substrat contrôlé par la température avec une large gamme de paramètres pour le contrôle avancé du processus de wafer. La conception de la chambre ENDURA 5500 utilise une géométrie circulaire pour optimiser les paramètres de processus tels que l'uniformité, la température et la pression. Son contrôle avancé des gaz permet de délivrer un ou deux réactifs solides, liquides ou gazeux distincts de manière efficace et uniforme. L'actif offre également un procédé de refroidissement thermique avancé pour un contrôle efficace et peu polluant des processus, ainsi qu'une large gamme de conceptions d'injecteurs pour répondre à un large éventail de conditions et d'exigences de processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA 5500 offre une interface graphique intuitive pour définir et gérer rapidement les recettes de processus et utiliser les paramètres multi-chambres du modèle. Un large éventail d'IPA sont disponibles pour l'intégration à la surveillance et au suivi des processus pendant les phases de développement et de validation de la production. Les algorithmes avancés de contrôle des processus utilisés dans l'équipement assurent une production précise et des résultats à haut rendement. Endura 5500 offre une fiabilité et des performances supérieures, réalisant jusqu'à 40 étapes de processus simultanées dans un seul système. Sa compatibilité des matériaux de pointe, sa polyvalence des procédés et sa flexibilité et sa haute performance peuvent répondre aux exigences les plus strictes de l'industrie. L'unité est conçue pour l'évolutivité et fonctionne avec un large éventail de précurseurs, permettant une expansion facile du produit et un débit de processus accru.
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