Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9117504 à vendre en France
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Vendu
ID: 9117504
PVD System, 8"
Process: AL Sputter
Robot information:
Buffer: AMAT HP
Transfer: AMAT HP
Load Lock information:
Wide body with Auto tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber information:
Chamber A
Chamber type: Pass Thru
Chamber Lid: Metal Lid
Chamber B
Chamber type: Cool down
Chamber Lid: Metal Lid
Cooling method: By PCW / By Gas
Chamber C:
Chamber Type: PC II
Chamber process: Preclean
RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001
RF Gen/DC power supply 2: LF-10
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: 361C
Chamber D:
N/A
Chamber E:
Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1:
Chamber Type: Wide body
Chamber process: TiN
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: (2) Position
Chamber 2:
Chamber Type: STD Body
Chamber process: AL
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: 2 Position
Chamber 3:
Chamber Type STD Body
Chamber process AL
RF Gen/DC power supply 1 MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type CTI OB-8F
Gate Valve 2 Position
Chamber 4:
Chamber Type: Wide body
Chamber process: TiN
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L18
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: (2) Position
1999 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour des applications de haute performance de semi-conducteurs et d'affichage à panneaux plats. C'est une solution monobloc, pression atmosphérique, cassette-à-cassette qui offre une technologie hautement avancée et adaptable aux processus pour une performance exceptionnelle de la chambre et une uniformité supérieure de la plaquette. Ce réacteur CVD innovant offre une homogénéité de procédé exceptionnelle, un temps de cycle extrêmement bas et un débit élevé sur une large gamme de procédés chimiques, tout en conservant d'excellentes caractéristiques de chambre. AKT Endura 5500 offre des films minces de haute qualité qui répondent aux exigences exigeantes du processus. Le contrôle des processus de bout en bout et la capacité garantissent une qualité supérieure des plaquettes et des films sans trou d'épingle. Le système offre également une flexibilité supérieure dans la division des processus grâce au rééquilibrage dynamique des gaz, qui ajuste activement les performances laser du réacteur CVD pour maximiser l'uniformité des plaquettes dans les cassettes, accrocher plusieurs cassettes, et au-delà. Ce système permet d'améliorer le procédé avec une plus large gamme de matériaux de substrat tels que le verre, le silicium et le quartz. Le logiciel de commande automatisé et personnalisable par l'utilisateur, piloté par la recette, permet un contrôle de chambre extrêmement précis, un fonctionnement optimisé, une réduction du temps de cycle et un rendement amélioré. La Purge automatisée et les traits de routine Clean™ tiennent compte des cycles de traitement rapides et repeatable. Le réacteur AMAT ENDURA 5500 dispose également de technologies avancées de contrôle de mouvement, telles que le contrôle sans balayage pour minimiser les variations de temps et d'uniformité, ainsi que le transport de plaquettes supérieures pour réduire le temps de cycle et les rendements des processus reproductibles. Dernier, mais pas la moindre partie, le système permet la Gaufrette Plus rapide Changeover™ (FWC™) et le Laser Amélioré Reflection™ (ILR™) qui améliore l'intégrité et le temps de fonctionnement du réacteur en améliorant de façon significative la performance de changement de gaufrette et en fournissant une atmosphère pareille à cleanroom virtuelle. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/AKT ENDURA 5500 CVD fournit les plus hautes performances, la plus haute qualité, des procédés reproductibles adaptés à une large gamme de substrats. C'est le réacteur CVD le plus avancé disponible aujourd'hui, parfait pour les applications de haute performance, semi-conducteur de précision et écran plat.
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