Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9142619 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur epi-ready haute performance conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur puissant utilise la technologie avancée de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) pour déposer des couches minces à des températures élevées pour diverses applications. Avec sa source de plasma haute densité, AKT Endura 5500 fournit des films riches en longs métrages avec une homogénéité supérieure, une uniformité au sein d'une plaquette, et un excellent contrôle de l'épaisseur du film. AMAT ENDURA 5500 dispose d'une chambre de traitement à quartz de 25,4 "par 25,4" de zone continue avec un grand diamètre intérieur de 20,1 "et une table d'indexation leader dans l'industrie supportant jusqu'à 1000W puissance. La chambre a une profondeur totale mince de seulement 43 "pour maximiser l'utilisation de l'espace au sol. Avec sa grande zone de gravure, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 peut effectuer la gravure d'oxyde simple plaquette ainsi que la gravure linéaire pour jusqu'à huit substrats batch. La navette à grande vitesse permet un chauffage uniforme des plaquettes dans un environnement de lot et supporte une large gamme de tailles de substrat. Le système de couplage de puissance RF du réacteur est spécialement conçu pour une adaptation supérieure de la source de plasma à la chambre de procédé et offre une grande stabilité et des performances lisses. AKT ENDURA 5500 offre également une large fenêtre de paramètres de processus allant de la basse à la haute fréquence, la pression, la puissance du débit d'azote, et le niveau de puissance. La source plasmatique à haute densité optionnelle permet une meilleure intégration des procédés de dépôt à haut niveau avec des films monobloc. Avec son système « Centuri » en attente de brevet, Endura 5500 offre une homogénéité inégalée au sein d'un seul lot de plaquettes. Ce système attribue dynamiquement du gaz de procédé à chaque plaquette pour une homogénéité et une répétabilité inégalées. Le réacteur dispose également d'un contrôle de consigne à deux zones qui permet des débits variables pour différentes applications et tailles de substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 offre également une palette de bords de substrat automatisée en option qui aide à réduire le dépôt de films sur les bords de substrats. Le logiciel de contrôle avancé sur ENDURA 5500 fournit un contrôle précis des processus, y compris des données en temps réel et la collecte de journal. Ce logiciel dispose également d'un module de contrôle GasBox unique qui peut ajuster automatiquement les réglages en cascade de gaz pour obtenir une épaisseur de film optimale et l'uniformité. AMAT Endura 5500 comprend également des fonctionnalités telles que la cartographie de l'uniformité des plaquettes et des bibliothèques de diagnostic avancées qui permettent une optimisation rapide des résultats des processus. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA 5500 est un réacteur fiable et performant parfait pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Équipé des dernières technologies, ce réacteur puissant offre uniformité, précision et répétabilité pour tous vos besoins de dépôt, gravure et nitrure.