Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9186543 à vendre en France

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ID: 9186543
PVD Systems, 12" INTEL FAB68 Intel original configuration Process group Retrofit B (2) TTN, NiPt NISPUT (2) SiCoNi + (NiPt+NiPt) + (2) Versa TTN+Degas (2) TTN, NiPt CUALSPUT MHM (2) TTN+TTN+Degas CU, TTN, PCXT CUSPUT LDR PCXT + PCXT + (2) EnCoRe II TaN + Cu + Cu + Degas Suspect CU, TTN, PCXT BSI-BATTN PCXT + PCXT + (2) IMP Ti + (2) CVD TiN + Degas CU, TTN, PCXT BSI-PADAL PCXT + PCXT + Versa TTN + TTN+(2) HP Al + Degas.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur à processus de wafer complet spécialement conçu pour la gravure diélectrique avancée dans l'industrie des semi-conducteurs. Cet outil de réaction offre une uniformité de gravure optimale et un contrôle avancé de la pression, de la température et du débit. Il est optimal pour créer des caractéristiques diélectriques à haut rapport d'aspect avec une productivité élevée et un contrôle de processus supérieur. AKT Endura 5500 offre des performances exceptionnelles combinées à une génération de faisceau supérieure. Il fonctionne à des températures liées au processus comprises entre 25 et 200 degrés Celsius, avec des tensions de polarisation comprises entre 0 et 600 VDC, et une pression réglable comprise entre 0,2 et 1,0 torr. La chambre de réaction utilise des conceptions avancées multi-chambres qui se traduisent par une meilleure stabilité et une plus grande flexibilité de processus. Le système comprend une conception multi-cathode haute performance, offrant une puissance supérieure pour la gravure diélectrique avancée. Le réacteur offre un contrôle automatique avancé des paramètres afin que l'utilisateur puisse facilement contrôler, contrôler et ajuster les paramètres du processus tels que la température, la pression, le débit et la tension. Cela permet de s'assurer que les processus sont ajustés et surveillés de façon optimale pour obtenir des résultats cohérents et reproductibles. Il comprend également une compensation de rétroaction avancée, fournissant en temps réel un contrôle de puissance modulé en largeur d'impulsion pour améliorer les performances et la précision. AMAT ENDURA 5500 est équipé d'une doublure améliorée et refroidie à l'azote pour la gravure de caractéristiques à haut rapport d'aspect, et optimisée pour résister aux particules, protégeant le procédé et le plasma de la contamination. Le Liner Shield intégré augmente la cohérence et l'efficacité de la production. Il dispose également d'un système avancé de nettoyage air-soufflage, combinant des souffleries d'air haute pression et une génération accrue de plasma pour nettoyer complètement le système de procédé. Le réacteur comprend également des logiciels évolués et conviviaux. Grâce à la modélisation haute performance, le logiciel peut déterminer les paramètres de processus les plus efficaces pour pratiquement n'importe quelle application de processus. Cela permet de réduire la variabilité et d'optimiser les processus pour une performance optimale. En conclusion, AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 est l'un des premiers réacteurs de procédé à tranche complète spécialement conçus pour la gravure diélectrique avancée. Il est optimal pour créer des caractéristiques diélectriques à haut rapport d'aspect avec une productivité élevée et un contrôle de processus supérieur. Le réacteur comprend une variété de fonctionnalités avancées pour s'assurer que les utilisateurs obtiennent des résultats rapides et fiables.
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