Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9191119 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur planétaire monobloc à vide ultra-élevé pour des applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Avec une architecture d'équipement de classe de production, le réacteur AKT Endura 5500 peut être déployé dans des fabs de 300mm ou plus et permet le dépôt de matériaux avancés dans des nanomètres de précision. Le réacteur AMAT ENDURA 5500 est équipé d'une tête rotative et stationnaire à double gomme pré-alignée avec une fenêtre de visualisation à quartz intégrée qui facilite l'accès de l'opérateur et offre une vue dégagée tout au long de la course. Ceci permet une surveillance continue de la plaquette pendant le traitement, permettant une surveillance de la vitesse de dépôt et de l'épaisseur cible. Grâce à la fenêtre de visualisation à quartz intégrée, le système peut être utilisé pour le traitement en mode simple ou par lots de films métalliques et diélectriques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura 5500 est équipé de robotiques avancées et de configurations de porteurs multiples qui facilitent à la fois l'intégration facile et l'évolutivité, permettant une grande variété d'applications de processus. Il dispose d'un robot à grande vitesse avec une piste à faible friction, qui offre un bon fonctionnement, un débit efficace et un contrôle précis tout au long du processus. Cela permet de tester et d'optimiser la recette dans un environnement de production unique. Le réacteur ENDURA 5500 est également compatible avec plusieurs systèmes de distribution de gaz, qui offrent flexibilité et extensibilité pour les applications avancées des procédés. Une machine à vide intégrée avec des pressions variables de la pompe à diffusion et des soupapes d'accord maintient la stabilité et l'uniformité du processus tout en tenant compte de l'introduction de gaz continu et pulsé. Ceci permet un contrôle sans précédent des subtilités de processus telles que la composition gaz/source, les débits de gaz, l'épaisseur du film et les profils de doublure. Le réacteur Endura 5500 est capable de réaliser un large éventail de procédés de dépôt. Il peut être utilisé pour le dépôt de film de haute précision pour les nano-structures, la formation de grille dopée pour les transistors de prochaine génération et le dépôt de film ultra-lisse pour la passivation des plaquettes. Le réacteur est également adapté à des architectures de dispositifs à mémoire avancée telles que NAND Flash et DRAM. De plus, il supporte des films de barrière et de passivation, des couches d'adhérence, des oxydes de grille ultra-minces, des diélectriques arrière, des couches de barrière de diffusion/arrêt de gravure et des extensions de source/drain. Grâce à son automatisation robuste, sa grande précision et son faible coût de possession, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 répond aux exigences les plus critiques et les plus exigeantes des applications avancées de traitement des semi-conducteurs d'aujourd'hui.