Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193019 à vendre en France

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ID: 9193019
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
PVD System, 8" Wafer shape: SNNF Chamber type / Location: Ch-1 Copper SIP ENCORE CU Ch-2 Refractory SIP ENCORE TA(N) Ch-3 Refractory SIP ENCORE TA(N) Cb-4 Copper SIP ENCORE CU Ch-A Pass thru Ch-B Cooldown with temp monitor Ch-C Reactive preclean Ch-D Reactive preclean Ch-E Orientor ultra uniform O/D with temp feedback Ch-F Orientor ultra uniform O/D with temp feedback System safety equipment: System EMO Type: Turn to release ETI compliant Includes EMO button guard ring Primary side trip amperage: 3P 600VAC 300 AINTCHG Trip unit Circuit breaker on secondary: 600A System water leak detector Mainframe facility water flow Electrical requirement: Line frequency: 60 Hz Line voltage: 480V Transformer type: 480V; 225kVA Main AC power inlet hole: Small 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour diverses applications telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la fabrication d'écrans plats et des domaines de recherche spécialisés. Le réacteur est équipé de deux chambres statiques PE-CVD et de deux chambres dynamiques de revêtement des pulvérisateurs. Chaque chambre est adressée individuellement pour améliorer la flexibilité de traitement et permettre de multiples combinaisons de processus dans un système. Les chambres PE-CVD offrent une homogénéité de film exceptionnelle et une répétabilité de couche avec une variance substrat/substrat ultra faible. Les chambres sont équipées d'un module de suivi des processus qui assure une croissance fiable et cohérente des films haute performance sans nécessiter de fréquents réglages ou calibrages manuels. Les pompes à vide incluses fournissent une pression de base inférieure à 10mTorr et assurent un environnement de travail propre et peu contaminant, tandis que l'interface d'armoire à gaz incluse permet une robustesse et une reproductibilité continues. Les chambres de pulvérisation dynamique offrent un taux de dépôt significativement plus élevé, réduisant les temps de pulvérisation par rapport au revêtement classique. Une flexibilité supplémentaire est disponible avec la possibilité de varier le niveau de puissance pendant un cycle de revêtement. La puissance de source élevée permet également des taux de dépôt plus élevés sur certains composants. Le canon E-beam inclus émet des électrons, plutôt que des ions, et crée des taux de croissance de revêtement positifs qui n'endommageront pas le substrat. En plus des chambres, AKT Endura 5500 comprend un module de contrôle PC avec une interface utilisateur graphique. Ce module permet un accès à distance, rendant le fonctionnement et la programmation relativement simples. Le panneau de commande à écran tactile fournit aux opérateurs tous les paramètres de commande nécessaires et permet d'affiner les réglages sans avoir à ouvrir le réacteur. En outre, il dispose également d'un certain nombre de fonctions de diagnostic pour aider au dépannage et optimiser les paramètres du réacteur. AMAT ENDURA 5500 est une solution fiable, répétable et économique pour le traitement des substrats et substrats critiques nécessitant un traitement critique non uniforme. Les capacités multi-chambres augmentent la polyvalence du système et offrent une uniformité supérieure et une répétabilité à long terme. C'est la solution idéale pour des applications performantes et peu coûteuses.
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