Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193779 à vendre en France
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Vendu
ID: 9193779
Style Vintage: 2005
Oxide system
Voltage: 480VAC, 30
Frequency: 60Hz
(3) Wires / Ground
Max system rating: 150KVA
Ampere rating of largest load: 172-8A
Interrupt current: 10,000 AMPS
Full load current: 172.8A
(5) Chambers:
Chamber 1: Ti
Chamber 2: Zr
Chamber 3: Mo
Chamber 4: Cr
Chamber D: Ta
2005 vintage.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur de pointe conçu pour répondre à des besoins de recherche et de production de haute qualité. Il dispose d'un logiciel intuitif et convivial, ainsi que d'une ingénierie précise et d'un contrôle avancé des processus. AKT Endura 5500 est bien adapté à diverses applications, y compris le dépôt de couches ultra minces de matériaux et de précurseurs, le dépôt chimique en phase vapeur inorganique et organique (CVD) de couches minces d'oxyde métallique et de nitrure métallique, et le dépôt en couche atomique (ALD). C'est un choix idéal pour la croissance de film mince de grande surface avec sa grande taille de suscepteur, le temps de réponse rapide, des configurations de chambre hautement personnalisables, et des taux de rampe rapides. Le système AMAT ENDURA 5500, scellé en métal, dispose d'une manutention automatisée des plaquettes, de configurations programmables des chambres et d'une unité électrique modulaire. Pour les dépôts en couches ultra minces, les configurations de sources ajustées en usine d'AKT ENDURA 5500 permettent un contrôle précis du processus de dépôt. Ces sources de précision réduisent les interférences substrat-substrat pour assurer un dépôt uniforme. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 dispose également de ports sources à double dépôt, permettant à l'utilisateur de déposer plusieurs matériaux simultanément. Le 5500 est construit sur une plate-forme de base conçue pour une intégration facile dans les procédés à vide élevé et moyen, allant du dépôt de couches minces à l'échelle de la plaquette à la synthèse en phase gazeuse des nanostructures. Sa construction en acier inoxydable offre une stabilité mécanique supérieure. Les parois de la chambre présentent des débits flexibles compatibles avec le vide qui permettent un accès extérieur à l'intérieur de la chambre pour les outils et les capteurs de processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA 5500 utilise une serrure de charge in situ pour une manipulation rapide et efficace de plaquettes allant jusqu'à 300mm, avec des capacités de purge des gaz et de cuisson thermique pour tester les conditions de processus avant leur introduction dans la chambre de dépôt principale. Cet outil de serrure aide à minimiser la contamination, assurant un dépôt uniforme et reproductible des couches minces. Le 5500 comprend des systèmes avancés de régulation de la température et de la pression pour optimiser chaque processus. Chaque procédé est conçu pour assurer un contrôle précis de la température dans toute la chambre. Un outil optionnel de contrôle de l'humidité à base de bulles permet à l'utilisateur d'utiliser diverses sources, telles que des précurseurs et réactifs humides et des gaz humidifiés, pour soutenir le dépôt de matériaux avec une excellente uniformité. Le modèle dispose de multiples caractéristiques de sécurité, y compris un équipement de surveillance de surpression de jauge ionique qui surveille la pression de la chambre en tout temps. Un ensemble de capteurs de sécurité est constamment surveillé, et le système est équipé d'un large éventail de HMI et d'alertes pour garantir l'intégrité de l'unité. Dans l'ensemble, ENDURA 5500 est une machine robuste et fiable, offrant une plate-forme de contrôle sophistiquée et intuitive pour un dépôt optimal de couches minces. Son logiciel convivial, ses configurations de chambres polyvalentes et son outil de verrouillage de charge, et ses fonctions de sécurité avancées en font un choix idéal pour une variété d'applications de recherche et de production.
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