Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9208048 à vendre en France
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Vendu
ID: 9208048
Style Vintage: 2002
PVD System, 8"
Single board computer in controller: V452
Copper barrier / Seed
Wafer handling: SNNF
Front panel type: Light pen
Loadlock vents: Variable speed
Buffer / Transfer robot: HP
Blade material: Thin metal
Chamber A: Bypass
Chamber B: Cool
Chamber E: Degas
Chamber F: Degas
Chamber C: Pre clean
Vacuum pump type: Turbo/dry
RF Match: PVD 200
Cable length: 50 Feet
Pedestal type: Cylinder
Power supply 1: CPS-1001S
Power supply 2: RFPP LF10A
Chamber 1 / 2:
Body style: WB
Source type: VECTRA IMP
Power supply: MXD-L12M 12KW
Heater: B101
Dual TC amp kit: No
Pedestal: B101
Target: D-Bond
Magnet: RH-2
Magnet shim thx: 0.75 mm
Gasline fittings: VCR
Loadlock fittings: VCR
Process MFC-1: 1 Ar 100
Process MFC-2: 1 Ar 100
Paste chamber: No
System roughing pump type: Dry
Chamber cryo pump type: CTI OB-8F, 3 phase
Heat exchangers: 1000
Cryo compressors: 9600 X2
Umbilicals:
Mainframe to controller: 75 Feet
Mainframe to generator racks: 75 Feet
Mainframe to cryo compressor: 75 Feet
Main AC to system controller/sys AC: 75 Feet
System AC to primary generator rack: 50 Feet
Main AC to primary generator rack: 6 Feet
Main AC to pump frame: 50 Feet
Main AC to NESLAB heat exchanger: 50 Feet
Monitor cable: 50 Feet
2002 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur de nouvelle génération à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour fournir un dépôt fiable et performant pour une large gamme d'applications en couches minces dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement utilise la technologie plasma de pointe pour produire des films minces de haute qualité et uniformes avec un contrôle de processus supérieur. Le réacteur AKT Endura 5500 est équipé d'un design compact et facile à utiliser, et est bien adapté aux opérations de fabrication à haut débit. Le système permet aux utilisateurs de définir les paramètres du processus indépendamment pour chaque chambre, en assurant un contrôle précis et une uniformité sur l'ensemble du processus. Cela garantit un dépôt uniforme et cohérent des couches minces, ce qui donne des résultats de haute qualité. AMAT ENDURA 5500 utilise également une gamme de technologies sophistiquées en phase plasma et gaz pour optimiser les performances des procédés et améliorer leur fiabilité. En assurant un dépôt uniforme dans un environnement très cohérent, l'unité peut produire des films plus épais, plus minces et multicouches avec un contrôle précis et des résultats prévisibles. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 permet un excellent contrôle des processus grâce à ses capacités avancées de surveillance intégrée des processus, de diagnostic et d'optimisation des processus. De plus, AMAT Endura 5500 offre également une sécurité et une fiabilité accrues. La machine utilise des capteurs intelligents pour surveiller constamment les conditions de plasma et de température. Cela fournit une rétroaction en temps réel sur l'état de l'outil, permettant aux opérateurs d'identifier et de traiter rapidement tout problème potentiel de performance. Dans l'ensemble, AMAT/Endura 5500 fournit une solution facile à utiliser, fiable et efficace pour les besoins de dépôt en couches minces de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Grâce à sa technologie plasma de pointe et à ses capacités intégrées de suivi et d'optimisation des procédés, APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 fournit des résultats de dépôt fiables, uniformes et précis qui sont parfaits pour une production à haut volume.
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