Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9219406 à vendre en France
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Vendu
ID: 9219406
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
System, 8"
Wafer shape: SNNF
MF Facilities: Bottom
Chamber 1: STD WC Body
Process 1: ESC AL
Chamber 2: Wide body
Process 2: TTN
Chamber 3: Wide body
Process 3: TTN
Chamber 4: Wide body
Process 4: Ti
Chamber A: Pass through
Chamber B: Cooldown
Chamber C/D: PCII
Process C/D: Oxide etch
Chamber F: O/D With temp
Heat exchanger 1: NESLAB I
Loadlock pump type: iL600
Transfer robot type: HP+
Transfer robot blade: Metal
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Metal
Wafer sensor: Mini beam
Loadlock type: Narrow BD without tilt out
System umbilical: 50 ft
EMOs: Turn to release
Hard drive: SCSI
(2) CRTs
GEM: No
OTF: No
No Facility power (UPS)
No loadlock pump
Loadlock slit valve O-rings: Viton (Black)
Heat exchanger 1: NESLAB
Heat exchanger 2: M-Pack
Main AC box: 480 V, Wide type
Chamber A:
Chamber type: Pass through
Chamber lid: STD Lid
Lift hoop & finger
Pedestal type: Standard
Chamber B:
Chamber type: Cooldown
Gas valves: Fujakin
Heater / Cathode cooling: PCW
Chamber lid: STD Lid
Pedestal type: Standard without TC option
Chamber C:
Chamber type: PCII
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: Oxide etch
Lid type: RF Resonator
RF Gen / DC supply 1: COMDEL CPS-1001S
RF Gen / DC supply 2: RFPP LF10A
RF Match: 13.56 MHz
No endpoint system
Process kit type: PIK-I
Chamber pump: EDWARD iL70
Turbo pump: LEYBOLD
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC9 (2) Manifolds
N2 300 SCCM MC-3102E-NC MFC10 (2) Manifolds
Chamber D:
Chamber type: PCII
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: Oxide etch
Lid type: RF Resonator
RF Gen / DC supply 1: COMDEL CPS-1001S
RF Gen / DC supply 2: RFPP LF10A
RF Match: 13.56 MHz
No endpoint system
Process kit type: PIK-I
Chamber pump: EDWARD iL70
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC12 (2) Manifolds
N2 300 SCCM MC-3102E-NC MFC13 (2) Manifolds
Chamber 1:
Chamber type: STD WC Body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: ESC AL
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1/2: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: MCA ESC
Heater / Cathode cooling: NESELAB I
No endpoint system
Gate valve position: 3 POS
Process kit type: ESC AL
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC18 (2) Manifolds
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC9 (2) Manifolds
Chamber 2:
Chamber type: Wide body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: TTN
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: 101
No endpoint system
Gate valve position: 3 Pos
Process kit type: (2) Ti/TiN
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 300 SCCM STEC 7440 MFC9 (2) Manifolds
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC10 (2) Manifolds
Chamber 3:
Chamber type: Wide body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: TTN
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: 101
No endpoint system
Gate valve position: 3 Pos
Process kit type: (2) Ti/TiN
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC2 (2) Manifolds
N2 300 SCCM STEC 4400 MFC3 (2) Manifolds
Chamber 4:
Chamber type: Wide body
Manometer config: Single
Manometer 1: 100mTorr
No shutter option
Chamber process: TTN
Lid type: 12.9"
RF Gen / DC Supply 1: AE MDX-L12M
Susceptor / Pedestal: MCA ESC
Heater / Cathode cooling: NESELAB I
No endpoint system
Gate valve position: 3 Pos
Process kit type: ESCAL
Chamber pump: Cryo pump (OB8F-3 Phase)
No heated valve stack
Gas MFC Size MFC Type MFC Number Gas stick
N2 20 SCCM STEC 4400 MFC4 Single
N2 100 SCCM STEC 4400 MFC5 (2) Manifolds
N2 200 SCCM STEC 4400 MFC6 (2) Manifolds
Missing ES chuck
System power: 200 VAC, 60 Hz, 3 phase, 343 A,150 kVA
2001 vintage.
AKT (AMAT) AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur autonome de haute performance conçu pour la production de semi-conducteurs avancés. AKT Endura 5500 est capable d'atteindre des débits élevés et faibles de défauts pour une grande variété de substrats et de matériaux. L'équipement est alimenté par une architecture modulaire évolutive qui supporte les procédés et les techniques de fabrication des semi-conducteurs les plus avancés. AMAT ENDURA 5500 est équipé d'une variété de caractéristiques uniques qui garantissent une productivité optimale. Il dispose d'un système de manutention de plaquettes performant qui permet de charger les plaquettes rapidement et facilement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 dispose également d'une unité de cartographie automatisée des plaquettes qui assure l'uniformité du traitement des plaquettes. En outre, la machine dispose d'un outil avancé de contrôle des processus qui surveille en permanence les températures des processus et d'autres paramètres critiques. AMAT Endura 5500 est conçu pour offrir une fiabilité de production supérieure pour une production à haut volume. Il dispose d'un atout de refroidissement avancé qui assure un fonctionnement efficace et minimise les temps d'arrêt. En outre, Endura 5500 est conçu avec des garanties environnementales telles que la filtration des gaz d'échappement d'air, le contrôle du vide et la modération de la température. Cela garantit un fonctionnement sûr dans les environnements de production et de laboratoire. En termes d'esthétique, ENDURA 5500 présente un design attrayant et élégant. Le modèle est conçu pour être autonome, et il a une interface utilisateur intuitive qui est facile à apprendre et à utiliser. L'équipement dispose également d'une gamme de fonctionnalités facultatives, telles qu'un scanner avancé pour l'analyse des plaquettes, qui peuvent être ajoutées pour améliorer encore ses performances. En plus de ses performances impressionnantes et de son esthétique, APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 offre une gamme de fonctions d'amélioration de la productivité. Il est conçu pour un débit élevé et des taux de défauts bas et peut répondre à une variété d'exigences optiques, wafer, et de processus. De plus, l'unité de contrôle avancée du système fournit des données détaillées sur les paramètres du processus, permettant aux utilisateurs d'ajuster le processus au besoin. AKT ENDURA 5500 est un réacteur exceptionnellement fiable qui offre aux utilisateurs une grande flexibilité de procédé. C'est la solution idéale pour les applications de production de semi-conducteurs à haut volume et est bien adaptée aux environnements de laboratoire et de production.
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