Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9241831 à vendre en France

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AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500
Vendu
Réacteurs
Fabricant
AMAT / APPLIED MATERIALS
Modèle
Endura 5500
ID: 9241831
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2000
System, 6" Load lock chamber: LLC Type: Narrow body Indexer without rotation Wafer mapping CH Vent: Slow / Fast vent No wafer slide out detector Buffer chamber: Robot unit: HP Blade type: Metal Upper & lower motor (2) Gate valves Cryo pump: 3 Phase (7) Wafer sensors Transfer chamber: Robot unit: HP Blade type: Metal Upper & lower motor (2) Gate valves Cryo pump: 3 Phase (6) Wafer sensors Chamber A: Pass through Chamber B: Cool down Chamber A / B: Lid type: Clear plastic Wafer lift Wafer lift hoop No TC monitor Chamber E / F: Oreintor degas Degas lamp module Wafer lift Wafer lift hoop Wafer chuck Orientor controller PCB Laser tub missing Laser CCD array PCB No TC No TC amp Chamber 1: PVD Wide body Source assy: 11.3" Source bracket kit Coh ti adaptor plate Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp Manometer: MKS 100 mT Ar Backside (2) Gate valves Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Heater type: Clamp Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic 1/8 poly line set Chamber 2: PVD Wide body Source assy, 11.3" Source bracket kit Adaptor plate: WB to STD 13" Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp Manometer: MKS 100 mT Ar Backside (2) Gate valves Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Heater type: Clamp Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set Chamber 3 / 4: PVD Wide body Source assy: 11.3" Source bracket kit Adaptor plate: WB to STD 13" Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp Manometer: MKS 100 mT Convectron gauge Ar Backside (3) Gate valves: PVD Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Heater type Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set Chamber C: PCII Etch Resonator Pedestal lift MKS Manometer Convectron gauge Ion gauge Turbo pump Wafer lift RF Match No process kit Chamber 1,2,3,4 & C: Gas panel assy MFC: (STEC 4400) MFC Down steam valve Manual shut off valve MFC Control cable MFC Inter-connect PCB Sub-module: Cryo compressor: CTI 9600 & 8500 (2) Cryo controllers: 3 Phase Chiller: NESLAB III Vacuum pump System pump: BOC EDWARDS QDP40 PCII Pump: BOC EDWARDS QDP40 + MB250 System rack: VEM SBC Video SEI (12) DIO AI (2) AO (3) Opto PCB (2) AI Mux Cryo temp /AI MUX (4) Steppers PCB TC Gauge PCB (2) Ion gauge PCB (4) Invertron gauge PCB OMS PCB Hard disk FD Disk (4) 2-Phase HTR lift drivers (6) 5-Phase robot drives RF Rack: RF/DC Rack Turbo controller (5) ISO AMP (4) DC/RF Generator interlocks PCB DC Power supply DC Generator: Model ADVANCE ENERGY MDX-L series RF Generator CPS 1001 RF Generator RFPPLF10A AC Rack type: 480 VAC, 3 Phase, 4+1 Wire with transformer DC Power supply: +5 VDC / +24 VDC DC Power supply: +/-15 VDC / +/-12 VDC 2000 vintage.
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AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur de gravure in situ essentiel au gaz destiné au traitement des semi-conducteurs et à l'outillage. Il est conçu pour fournir une uniformité et une fiabilité optimales pour les applications de gravure utilisant une combinaison de gaz inertes ou réactifs et une conception optimisée de substrat à antenne. AKT Endura 5500 dispose d'un réacteur à double substrat, avec une chambre inférieure et une chambre supérieure. La chambre inférieure est optimisée pour les processus de gravure et de dépôt à grande vitesse, tandis que la chambre supérieure offre une plus grande fenêtre pour les processus de gravure et de dépôt nécessitant un contrôle plus précis. AMAT ENDURA 5500 est équipé d'un plasma à faible bruit, à faible puissance, activement refroidi pour permettre un fonctionnement fiable pour une grande variété de processus de gravure et de dépôt. Le contrôle de pression dynamique intégré permet de régler la puissance RF pour maintenir une uniformité et une fiabilité optimales du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 utilise une technologie de conversion de fréquence par ultrasons pour assurer un chauffage uniforme du substrat et une gravure uniforme des polymères et autres matières organiques. La capacité haut débit du réacteur ENDURA 5500 MATÉRIAUX APPLIQUÉS permet aux utilisateurs de maximiser le débit et l'utilisation de leurs outils tout en optimisant leurs performances. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 dispose également d'une variété de systèmes avancés de surveillance des processus, y compris la spectroscopie des émissions optiques, l'imagerie thermique et l'analyse en microscopie optique. Avec AKT ENDURA 5500, les utilisateurs sont en mesure de surveiller les paramètres critiques du processus en temps réel et d'effectuer les ajustements nécessaires, permettant un meilleur contrôle et une meilleure optimisation du processus. Le système est facile à utiliser, très précis et offre une large gamme de programmabilité pour le contrôle direct et la surveillance de tous les principaux paramètres du processus. Pour un fonctionnement sûr et fiable, l'AMAT Endura 5500 comprend également un système de sécurité intégré, avec des dispositifs de sécurité et du matériel de protection afin de protéger les opérateurs et les équipements contre les risques imprévus. Il comprend une variété de systèmes de commande de mouvement et thermique, permettant aux utilisateurs de le configurer en fonction de leurs besoins spécifiques. Endura 5500 offre également un système de maintenance automatisé pour s'assurer qu'il est maintenu en forme haute et prêt pour des opérations de gravure et de dépôt optimales.
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