Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9258406 à vendre en France
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Vendu
ID: 9258406
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
PVD Sputtering system, 8"
Wafer shape: SNNF
VHP Robot
Chamber configuration:
Chamber A: Pass chamber
Chamber B: Cooldown chamber
Chamber 2 and 3: HP TxZ Chamber with gas panel
Chamber 4: IMP Ti Chamber
Chamber C: Pre-clean II Chamber
Chamber D: Pre-clean II Chamber
Chamber E and F: Degas Chamber
Loadlock configuration:
Widebody loadlock
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: WWM
Fast vent option
SMIF Interface
Mainframe configuration:
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Metal blade
XFER Robot type: VHP
Lid hoist
Status light tower
Remote monitor: Stand alone
Missing parts:
Chamber 2 and 3:
Turbo pump
Turbo pump controller
Chamber lid
Process kits and heater
Chamber 4:
Cryo pump
Source assy
Magnet
B101 Heater
Lift assy
RF Generator
Chamber C:
Turbo pump
Turbo pump controller
400K RF Generator
Chamber D:
Turbo pump
Turbo pump controller
400K RF Generator
13.56M RF Generator
Mainframe:
Buffer
Transfer chamber cryo pump
Rack electrical configuration:
SBC
VGA Board
OMS / SEI
Electrical configuration:
Line voltage: 208 V
RF I and II Rack:
Line voltage: 208 V
Compressor electrical configuration:
Line voltage: 208 V
9600 Compressor, 3 Phase
UPS Interface
AC Rack:
Line voltage: 480 V
Full load current: 400 A
Frequency: 60 Hz
CE Marked
2000 vintage.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un équipement de dépôt avancé comportant des procédés monobloc pour le traitement des semi-conducteurs. Le 5500 est conçu pour maximiser le débit, le rendement et la fidélité grâce à des technologies de processus et d'automatisation éprouvées. Avec des systèmes de contrôle de pointe et des valeurs d'uniformité toujours inférieures à 0,2 %, le 5500 est bien adapté pour traiter les applications de processus les plus exigeantes, y compris la formation d'interconnexions avancées, de mémoire et de dispositifs optoélectroniques. Le 5500 utilise des sources de plasma à couplage inductif (PIC) pour fournir une source d'ions et de radicaux énergétiques qui facilitent l'implantation d'ions, le dépôt, la pulvérisation et les processus de gravure dans la chambre. Les sources du PCI sont associées à des systèmes complets de contrôle des processus embarqués pour assurer un contrôle précis des conditions du plasma et du substrat. Le 5500 dispose d'un système automatisé de transfert de substrat, qui permet un traitement précis, répétable et fiable des plaquettes. De plus, une série de pièges à hydrocarbures et de pelleteurs aident à maintenir des conditions de processus optimales et à protéger l'unité contre la contamination. Le 5500 a jusqu'à dix conduites de gaz de procédé contrôlables pour optimiser les paramètres de processus tels que l'implantation d'ions et les taux de dépôt des pulvérisateurs. La 5500 dispose également de plusieurs stations Cassette-à-Cassette (C2C), ce qui permet de traiter simultanément jusqu'à huit lots de plaquettes sources. Cela permet un débit élevé avec un minimum de déchets, ainsi que la capacité de commuter le traitement des lots de plaquettes en quelques secondes. La machine dispose également d'un module de pulvérisation réactif intégré qui utilise les techniques de dépôt amélioré ultraviolet (UED) pour permettre des caractéristiques photoniques entièrement auto-formées. Pour assurer l'uniformité, le 5500 utilise des algorithmes propriétaires de pointe de l'industrie pour optimiser l'uniformité sur le plan de la plaquette. L'outil dispose également d'un outil d'analyse intégré, permettant une visibilité sans précédent dans l'uniformité et les conditions de processus à travers la plaquette. Cet outil permet une intégration et une optimisation rapides des processus, avec des délais d'exécution améliorés par rapport aux méthodes traditionnelles. Le 5500 offre un débit exceptionnel avec une homogénéité et une répétabilité de pointe dans l'industrie, jumelé à des fonctions avancées de contrôle des processus et de facilitation des processus. Avec sa combinaison de caractéristiques et de capacités, la 5500 fournit une excellente solution pour les procédés de dépôt critiques utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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