Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9258409 à vendre en France

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ID: 9258409
Taille de la plaquette: 8"
PVD Sputtering system, 8" Wafer shape: SNNF Chamber: Chamber A: Pass chamber Chamber B: Cooldown chamber Chamber 1: AlCu NB Chamber 2: TiN WB Chamber 3: AlCu NB Chamber 4: TiN WB Chamber E and F: Degas chamber Loadlock: Widebody loadlock Auto rotation Cassette type, 8" Mapping function: WWM Vent type: Variable speed Fast vent option SMIF Interface Mainframe: HP Buffer robot Buffer robot blade: Metal blade HP+ XFER Robot Buffer robot blade: Metal blade LID Hoist Light tower Stand along remote monitor Missing parts: Mainframe: Buffer / Transfer chamber cryo Pump / Robot arm Chamber 1: Cryp pump Chamber 2: Cryo pump Heater assembly Shutter assembly Chamber 3 and 4: Cryo pump Loadlock: LLB Index Rack electrical: PCB Rack electrical: Line voltage: 208 V RF I and II Rack: Line voltage: 208 V Compressor electrical: Line voltage: 208 V 9600 Compressor: 3 Phase No UPS interface NESLAB Electrical configuration AC Rack: Line voltage: 480 V Full load current: 400 A Frequency: 60 Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un équipement de dépôt conçu pour fournir et réduire des produits chimiques durs à la surface d'un substrat. C'est une machine de procédé à grande échelle qui est utilisée pour les applications de vide et de gravure. Les ingénieurs d'AKT ont conçu le système pour offrir des niveaux élevés de fiabilité, de performance et de rentabilité. Il est souvent utilisé dans la fabrication de puces à mémoire, de composants microélectroniques, et dans le procédé de polissage mécanique chimique. Les principaux composants de l'AKT Endura 5500 comprennent une chambre de réacteur, une source de plasma et une série de pompes à vide. La chambre du réacteur est un espace isolé où se trouve le substrat. Il est chauffé à une température allant de 80 à 200 ° C, selon le type de dépôt effectué. La chambre du réacteur est équipée de broches de levage pour faciliter le chargement et le déchargement des substrats. Le processus chimique exothermique est réalisé en introduisant des gaz et en contrôlant le moment et la pression. En outre, l'unité dispose d'un panneau de commande numérique qui permet aux utilisateurs de régler et de contrôler plusieurs paramètres, soupape et pression. La source de plasma AMAT ENDURA 5500 produit un panache à basse énergie, qui est généré par une couche de céramique protégée avec plusieurs sources de gaz. La source de plasma est capable de contrôler la vitesse de dépôt du matériau et d'assurer l'uniformité et la cohérence sur l'ensemble du substrat. Les pompes à vide sont utilisées pour l'évacuation et la conservation de l'état de vide à l'intérieur de la chambre. Ils sont également chargés d'assurer le transport des matériaux vers et depuis la surface cible. Les pompes sont équipées d'un système automatique de contrôle de pression et de filtrage. L'outil AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 offre un contrôle précis du processus de dépôt, ce qui permet à l'utilisateur de traiter et de personnaliser des matériaux fabriqués avec une large gamme de propriétés physiques. En outre, la machine est équipée de systèmes de surveillance avancés et est capable de contrôler et de contrôler plusieurs paramètres tels que les températures du substrat, les niveaux de pression et l'épaisseur du matériau déposé. L'actif fournit également des fonctionnalités de détection de défaut et d'alerte pour permettre à l'utilisateur de détecter et de corriger facilement les erreurs typiques. Dans l'ensemble, ENDURA 5500 fournit une production efficace et fiable pour un certain nombre d'applications de traitement de matériaux. Il offre des niveaux élevés de fiabilité, de performance et de flexibilité, permettant à l'utilisateur de personnaliser et de contrôler son processus de fabrication.
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