Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9304004 à vendre en France
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ID: 9304004
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1997
System, 6"
MF Facilities: Rear
Heat exchanger: NESLAB I
Buffer robot type: HP
Transfer robot type: HP
Hard Disk Drive (HDD): SCSI
Buff robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Mini beam
Loadlock type: Narrow body without tilt out
Transfer robot blade: Metal
Signal tower: 3 Color
System umbilicals: 25 ft
EMO
No GEM
No OTF
Controller
Generator rack
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
CTI-CRYOGENICS Motor controller: 3 Phase
EBARA A07V Pump
Main AC box
Transformer: 200 VAC,3 Phase, 50/60 Hz
MF Enclousure cover installed
MF Gas box
Laser assy
OB- 8F Cryo pump: Enhanced type
Process lift: Motorize type
SBC BD Type: V452
Buffer / Transfer: VHP Conversion possible type
MF Facility box
UPS: Interface type
Chamber A:
Type: PC-II
ADVANCED ENERGY LF10A RF Generator
COMDEL CPS1001S RF Generator
Gas valves: Nupro
Manometer: 100m Torr
LEYBOLD Turbovac 361C Pump
Lid: Resonator
Match box, 6"
LEYBOLD Turbotronic 150 / 360 Turbo controller
EBARA A07V Pump
Gasses:
LEYBOLD Turbo pump
MFC Size / Gas name / MFC Type
300 / Ar / Stec 4400
20 / Ar / Stec 4400
Chamber B:
Type: Cool down
Gas valves: Nupro
Heater / Cathode cooling: PCW
Lid modified to Quartz lid
Chamber 1:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12-650 DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Ion gauge: Nude type
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 2:
Process: AL
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12M Power supply
ADVANCED ENERGY MDX-L12 Power supply
Susceptor / Pedestal: 4F
Heater / Cathode cooling: NESLAB I
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
MKS Residual gas analyzer installed
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Gas stick configuration
Gas 1 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Chamber 3:
Process: Ti
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-10K DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 4:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-650 HiZ DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 20 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Missing parts for chamber 1:
Drive: 2 Phase
Motor
Gear box
Gear box mount
Belt
Slot / Top rack boards:
1 / SBC Board
2 / Videl board
3 / OMS Board
4 / DI/O Board
5 / DI/O Board
6 / DI/O Board
7 / DI/O Board
8 / DI/O Board
9 / DI/O Board
10 / SEI Board
11 / No 486C
12 / No seriplex
13 / No DI/O board
14 / No AO board
15 / Stepper board
16 / No spare
17 / No spare
18 / Stepper board
19 / AI Board
20 / AO Board
21 / AO Board
22 / Hard Disk Drive (HDD)
23 / No grounding JAC
24 / Convectron board
25 / Convectron board
26 / Convectron board
27 / Convectron board
28 / No TC
29 / No TC
30 / ION Gauge board
31 / ION Gauge board
32 / No spare
33 / DI/O Board
34 / DI/O Board
35 / DI/O Board
36 / DI/O Board
37 / DI/O Board
38 / No DI/O board
39 / No DI/O board
40 / Floppy Disk Drive (FDD)
41 / No spare
42 / Cryo temp
43 / AI Mux
44 / AI Mux
45 / No AI Mux
46 / No spare
47 / Opto detect board
48 / Opto detect board
49 / Opto detect board
50 / No spare
UPS: 200 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz, 350 A
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 est un réacteur épitaxié à haut débit et à forte composante conçu pour la production de semi-conducteurs. L'AKT Endura 5500 dispose d'un chargeur/déchargeur automatique complet et de plusieurs chambres de processus qui permettent une mise en place rapide et une uniformité de processus optimisée. AMAT ENDURA 5500 est conçu pour fournir un débit élevé pour les plaquettes épitaxiales de petit et grand diamètre. AMAT Endura 5500 supporte une grande variété de procédés chimiques, y compris le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et l'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE), pour la croissance de divers matériaux allant du silicium, du silicium-germanium, du silicium dopé au carbone, et d'autres composés. Cette flexibilité s'adapte à la production de divers produits, y compris les dispositifs logiques traditionnels, les MEMS (systèmes microélectromécaniques), la logique avancée et les composants optoélectroniques. Le système dispose d'une télécommande unique qui simplifie la configuration des processus et permet une surveillance à distance complète de trois systèmes ENDURA 5500. Cela inclut l'accès en temps réel à plusieurs paramètres de processus tels que la température, le taux de croissance et la pression du processus, en plus de permettre à l'utilisateur d'organiser directement la chambre de processus. Ces données sont précieuses pour trouver et dépanner rapidement les problèmes de processus. ENDURA 5500 offre une variété de configurations de chambres de procédés, de radeaux contraints et de boîtiers, permettant un cyclage rapide et efficace des plaquettes et une production de gros volumes. Les radeaux contraints disposent d'un contrôle d'uniformité amélioré, permettant de disposer les plaquettes en terrasses pour assurer une uniformité thermique constante sur l'ensemble de la plaquette. Grâce à un système de caméras hautement intégré, l'alignement automatisé des plaquettes est possible avec des plaquettes de quatre, six, huit et douze pouces, assurant une manipulation et un traitement cohérents et précis des plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura 5500 dispose également d'un module de manutention entièrement automatisé des plaquettes, ce qui élimine la manutention et le chargement manuels des plaquettes qui prennent beaucoup de temps. Cela inclut le système de transfert de cassettes rotatives de signature Endura 5500, permettant le chargement et le déchargement automatisés en continu de jusqu'à dix cassettes de wafer pour une production ininterrompue. Dans l'ensemble, AKT ENDURA 5500 est un premier réacteur épitaxié complet conçu pour une production rapide et à haut volume de plaquettes. L'appareil est équipé des dernières performances de la chambre de traitement et du chargement automatisé des plaquettes, ainsi que d'une surveillance à distance et d'un contrôle d'uniformité optimisé, qui garantissent une production cohérente et fiable.
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