Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9373105 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor est un équipement de dépôt de haute précision conçu pour créer des microstructures à couches minces de haute qualité pour les technologies semi-conductrices et optoélectroniques. Ce système utilise des procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt de couche atomique (ALD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer des couches de couches d'ultrathrine sur des substrats. AKT Endura 5500 est hautement personnalisable, permettant la conception modulaire et la personnalisation pour des besoins spécifiques. AMAT ENDURA 5500 utilise un tube de chauffage en verre compatible avec tous les types de produits chimiques précurseurs. Le tube peut chauffer jusqu'à 950 ° C, et sa large plage de température permet la création de couches minces de film dans des conditions spécifiques. Il dispose d'une configuration double obturateur pour la manutention entièrement automatisée des échantillons, avec des temps de chargement et de déchargement rapides. L'unité dispose également d'un volet de douche automatique haute performance, qui optimise l'uniformité et l'épaisseur des films minces. AMAT Endura 5500 utilise des garnitures isolantes en céramique pour des applications telles que le CVD et l'ALD. Il peut également incorporer des chemises dans une gamme de matériaux différents pour des procédés de dépôt spécialisés. La machine dispose également d'un outil entièrement automatisé de contrôle de la pression et de la composition qui ajuste la pression de dépôt et la composition de la chambre pour chaque dépôt de film. Cela garantit des conditions optimales sont maintenues tout au long du processus. Pour la validation des processus et la collecte des données, AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500 intègre des systèmes automatisés de détection des paramètres tels que la microbalance à cristaux de quartz (QCM), l'ellipsométrie et les tests optiques et électriques. Ce réacteur utilise également du plasma RF et des barrières électriques, permettant un dépôt uniforme et répétable de couches minces. ENDURA 5500 offre une large gamme de capacités de contrôle et de surveillance de processus, telles que le contrôle de la température de plusieurs chambres, le positionnement des gaz de processus à puissance variable et la rampe d'alimentation. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA 5500 offre un contrôle d'uniformité avancé, qui permet de surveiller et de contrôler l'épaisseur et l'uniformité du film. Il peut également fournir une capacité de cartographie de l'uniformité des dépôts in situ en 2D/3D. De plus, son atout de régulation de température multi-zones permet à l'utilisateur de contrôler les débits de dépôt des films pour s'assurer que le processus s'exécute dans les spécifications fixées. Dans l'ensemble, le réacteur Endura 5500 est un excellent choix pour le dépôt de microstructures à couches minces de haute précision. Il offre une interface conviviale, une variété d'options pour personnaliser le processus, et une large gamme de capacités de surveillance et de contrôle des processus. En raison de sa polyvalence, ce modèle est idéal pour une gamme d'applications, y compris les technologies semi-conductrices et optoélectroniques.