Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #293752937 à vendre en France
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ID: 293752937
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2001
System, 12"
Chamber E/F: STD Degas
Chamber D: PC-XT
Chamber 1: IMP
Chamber 2/3: TxZ
(2) Scanners
Generator rack
Distribution rack
AC Rack
Monitor missing
Front monitor
Flex controller: VME Type
(2) PODs
Light curtain: FABS Type(JAPAN)
Signal tower: 3 Colors
Aligner type: Single axis stand alone
Passthrough: Dummy 12-Slot
Missing parts:
KENSINGTON Robot
Robot controller 1/2
FI HDD/FDD
CD ROM
FI CPU Board
(2) Degas Chambers (E/F)
Chamber type: STD Heater Type
Cryo pump missing
Chambers A&B:
Chamber A: Passthrough
Chamber B: Cooldown
Lid type: Clear Lid
Buffer and transfer:
Robot type: VHP Robot
(12) Slit V/V Assemblies
(12) Slit V/V Doors
Missing parts:
Cryo Pump
SBC452 Board
P-III CPU Board
Buffer Interlock Board
FE HDD
RT HDD
FE/RT FDD
VHP Robot cover
Chamber 1:
Process type: Vectra IMP
IMP Adaptor
Weldment type: STD
Controller tower type: CL STD Type
Lid hoist type: Gas spring type
Heater type: B101
Gate V/V type: 3 Position
Shitter option: CL STD Type
Missing parts:
Coil match
Bias match
Cryo pump
Coil matching box: 2 MHz
Bias matching box
Shutter driver
Wafer lift driver
Bias pedestal RF power cable
Ion/Convectron gauge controller
Pedestal driver
Chamber 2:
Process Type: TxZ
Gas box type: TFTE DLI Type
Gas delivery & exhaust: TFTE Type
TurboVac 361C Pump
Heater type: TxZ STD
Turbo isolation valve: Angle valve
Baratron gauge: 2T/1000Torr
MFC: (5) STEC
Missing parts:
Throttle valve
MFC and valve for purge module
Chamber feedthrough
DI/O Board
TDMAT Bottle
Purge module bracket
Lid CVGGF
Chamber 3:
Process Type: TxZ
Gas box type: TFTE DLI Type
Gas delivery & exhaust: TFTE Type
TurboVac 361C Pump
Purge module: BOT/EDGE/BS
Baratron gauge 2T/1000Torr
MFC: (5) STEC
Missing parts:
Throttle valve
MFC and valve for purge module
Chamber feedthrough
TxZ Heater & Lift pin
Purge module bracket
Chamber D:
Process Type: PC-XT
Resonator type: Fan resonator
Controller tower type: CL STD Type
TurboVac 1000C Pump
Gate V/V Type: 2Pos
Bias match option: 13.56 MHz
MFC: (2) STEC
Missing parts:
Analog board
Bias matching box
Pedestal RF Power
Pedestal lift assembly
Lift/Pedestal driver
RGA Manual valve
PC-XT Pedestal
DI Max Cooler: DI Max
Chiller: Steelhead 1
Compressor missing
Racks:
Distribution rack
(2) Generator racks
AC Rack
Accessories:
TDMAT auto re-fill gas cabinet
Abatement device 1/2
UPS
Umbilical cable
Pump frame
System earthquake prevention belt brackets
INFICON RGA Accessories
AC Rack DI/O board missing
IMP CDX-1250 Bias generator missing
Power supply:
Chamber 1:
Dual Pinnacle 10 kW+6 kW
HFV-8000 5 kW
Chamber 2, 3:
COMDEL CLX-2500
Chamber D:
ENI GMW-25A 2 MHz
ENI GHW-12A 123.56 MHz
Missing pumps:
SWLL
Degas
RPC
2001 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Endura CL est un réacteur de traitement de plaquettes à haute performance. Cet équipement spécialisé est utilisé pour déposer, graver et feuilleter des couches minces de matériaux de la surface d'une plaquette semi-conductrice. Ses capacités de polissage chimico-mécanique (CMP) permettent une planarisation uniforme des caractéristiques et des surfaces même à l'échelle nanométrique. Le réacteur AMAT Endura CL est livré de série avec le chargeur de plaquettes Chroma 1400 et l'alimentation SpeedTec EBR-2000, qui contribuent tous deux à assurer un dépôt et un brassage uniformes. Le réacteur dispose également d'un canon électronique de 120 kV, d'un équipement automatisé de manutention et d'injection de gaz et d'un système de mesure et de gestion de la température en temps réel, permettant une précision et une répétabilité lors du traitement des plaquettes. De plus, l'unité dispose d'un programme intégré de tolérance aux erreurs qui aide à anticiper et corriger les erreurs de traitement en temps réel. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura CL est conçu spécifiquement pour les applications de métallisation, et ses capacités de dépôt de haute puissance peuvent traiter jusqu'à 50 plaquettes par heure. Le réacteur dispose d'un environnement triple vide avec une chambre à ultra-haut vide (UHV) qui élimine le rayonnement cosmique, le courant induit et la contamination des particules. Cet environnement de vide serré permet un meilleur contrôle des conditions de réaction, conduisant à un aspect et une uniformité du film précisément manipulés et cohérents. La conception compacte du réacteur Endura CL lui permet de s'adapter facilement aux environnements de salle blanche. Son procédé de dépôt en phase vapeur catalytique (CVD) à faible entretien permet le dépôt uniforme de films diélectriques et de métallisation de manière rapide et répétable. Le réacteur dispose également d'un certain nombre de configurations spécifiques au procédé, permettant une grande variété d'applications de traitement des plaquettes. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura CL est soutenu par des programmes exemplaires de service à la clientèle et de maintenance AMAT, qui garantissent que la machine reçoit le soutien et l'expertise technique nécessaires pour maintenir son fonctionnement efficace. Cette pièce d'équipement semi-conducteur haute performance est un outil essentiel pour ceux qui cherchent à déposer, graver et feuilleter des couches minces de matériau de la surface d'une plaquette. Ses caractéristiques avancées permettent la planarisation uniforme des caractéristiques et des surfaces même à l'échelle nanométrique.
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