Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9200110 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS L'Endura CL est un réacteur avancé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) à base de silicium couramment utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il a été conçu pour permettre des techniques avancées de traitement des dépôts dans une production à haut volume. Le réacteur AMAT Endura CL PVD a une conception de plate-forme modulaire, offrant une excellente flexibilité pour configurer un large éventail d'intégration de processus. L'architecture avant, basée sur la chambre peut facilement accueillir une variété de composants d'outils. Cela offre aux utilisateurs un accès et une maintenance faciles tout en permettant une personnalisation individuelle, permettant une intégration de processus avancée sur une plate-forme unique. Le réacteur utilise des techniques avancées pour permettre le dépôt de la plus haute qualité sur une gamme de substrats. Le réacteur utilise une gamme de gaz de procédé, y compris des organosilanes très réactifs, pour permettre des films ultra-minces avec un contrôle serré de la structure et de l'uniformité des films. A des températures plus élevées, des taux de dépôt plus élevés et même des couches plus denses peuvent être obtenus. De plus, le réacteur est capable de chauffer et de refroidir rapidement le substrat, ce qui permet des délais de production rapides. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura CL possède un certain nombre de fonctions avancées de manutention et de gestion des déchets. Les matériaux sont chargés près du sommet du réacteur, puis acheminés à travers le système par une série de bras robotiques. La gestion des déchets est gérée par un système de recyclage des matériaux en boucle fermée qui permet des opérations sans contamination et des rendements plus élevés. La conception du réacteur permet également un excellent contrôle du processus, avec un contrôle précis de la température, de la pression, du débit de gaz et du confinement de pression. Avec un contrôle avancé de ces paramètres, les utilisateurs peuvent atteindre des exigences de qualité strictes et une plus grande uniformité sur une gamme de substrats. Dans l'ensemble, Endura CL est un réacteur PVD de pointe conçu pour une production à haut volume à base de silicium. Il offre aux utilisateurs une excellente flexibilité pour personnaliser un large éventail d'intégration de processus, permettant des techniques de dépôt avancées avec des délais d'exécution rapides et des rendements élevés. Grâce à des paramètres précis de contrôle des processus et à une gestion avancée des matériaux et des déchets, les utilisateurs peuvent obtenir une excellente uniformité des films sur une gamme de substrats.