Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9236845 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Endura CL est un type de réacteur chimique utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement et la fabrication de structures en couches minces. Il est utilisé pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt par couche atomique (ALD) et le dépôt par plasma (PED) de matériaux pour créer des films. Le réacteur est conçu pour une grande homogénéité et répétabilité. AMAT Endura CL dispose d'un design de source de douche conforme avec tableau d'obturation programmable. Ceci permet un dépôt uniforme et répétable de films sur des substrats de grande surface. La conception de la source a également été optimisée pour minimiser la formation de sous-produits et assurer des rendements élevés. La chambre est alsodique pour permettre des temps rapides de remontée thermique et de rafraîchissement, permettant de terminer le processus de dépôt rapidement et efficacement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura CL utilise un équipement robuste de contrôle des processus qui permet un contrôle automatisé des paramètres du processus. Cela permet de contrôler avec précision la température, la pression et les débits de gaz pendant le processus de dépôt. Le système permet également d'utiliser avec souplesse jusqu'à trois gaz précurseurs et deux gaz réactionnels dans le processus. Ceci permet d'ajuster la chimie du film pour des besoins d'application spécifiques. Endura CL dispose également d'un générateur de plasma in situ conçu pour assurer des processus de gravure plasma répétables. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure et peut aider à réduire la quantité de sous-dépouille pendant le processus de dépôt. L'unité supporte également la gravure de différents matériaux, y compris les métaux, les oxydes, les nitrures et d'autres semi-conducteurs. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Endura CL est conçu pour un entretien facile. La chambre de la machine présente un design qui permet d'enlever facilement la source et les composants du plancher. Cela permet un accès rapide aux composants intérieurs de l'outil et permet des opérations de maintenance rapides et efficaces. L'actif dispose également d'un modèle de diagnostic avancé qui permet de diagnostiquer rapidement tout défaut et aide à prévenir les temps d'arrêt imprévus. En conclusion, AMAT Endura CL est un réacteur chimique conçu pour le dépôt de couches minces pour des applications semi-conductrices. L'équipement est conçu pour une grande uniformité et répétabilité, avec un contrôle automatisé des processus et une rampe rapide et des temps de refroidissement. Le système dispose également d'une capacité de gravure plasma et d'une unité de diagnostic robuste, contribuant à assurer un fonctionnement fiable.