Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9237067 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'Endura CL est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance conçu pour la production. Il est utilisé pour le dépôt et le traitement de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs et les industries connexes, et fait partie intégrante du processus de fabrication avancé. AMAT Endura CL est équipé de nombreuses fonctionnalités pour maximiser la précision et l'efficacité, telles qu'une chambre de processus fermée, des capacités de traitement à deux voies, un refroidissement optimisé et un équipement d'évacuation intégré. La chambre de procédé fermée permet un environnement étroitement contrôlé, avec une conception unique qui favorise une répartition uniforme de la température et une stabilité supérieure de la température. Le traitement à deux voies permet un dépôt hautement avancé, multicouche et multicouche. Le système de refroidissement peut être optimisé pour économiser de l'énergie et du temps de traitement, avec une unité d'évacuation intégrée permettant d'évacuer rapidement et efficacement les gaz de la chambre. Ceci maintient la pureté du gaz, permettant un dépôt cohérent. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura CL dispose également de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus. La température, le flux de liquide et de gaz et la pression sont tous surveillés, créant une vue en temps quasi réel du processus. Cela assure une visibilité sur les performances de la machine, permettant une plus grande cohérence et précision. Endura CL a une stabilité globale du procédé de +/-1 degré Celsius, et soutient une grande variété de processus de dépôt, y compris métalorganique, électrochimique, couche atomique, et dépôt physique en phase vapeur. Il est également capable de produire une gamme de matériaux, des métaux aux oxydes en passant par les diélectriques. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL est une solution CVD sophistiquée conçue pour maximiser l'efficacité, augmenter le débit et fournir des résultats cohérents et de haute qualité. Avec ses capacités avancées de surveillance des processus, de traitement à double voie et de refroidissement optimisé, il est un outil idéal pour le traitement de précision IC, MEMS et de couches minces.