Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9271325 à vendre en France
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ID: 9271325
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
PVD System, 12"
Process: CH-1_Ti / CH-2_AL / CH-3_AL / CH-E&F_Degas
2003 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Endura CL est un équipement avancé de réacteur clamshell spécialement conçu pour déposer des matériaux nanoélectroniques avec une haute conformité et uniformité. La construction de la chambre sur AMAT Endura CL présente une construction céramique résistante à la gravure pour garantir des résultats de processus supérieurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système Endura CL est équipé d'une technologie sous vide qui assure une couverture maximale des plaquettes grâce à une convection améliorée. Il dispose d'une unité de transfert thermique à base de convoyeur pour assurer une uniformité de température précise sur les surfaces du substrat. En outre, sa faible pression de vapeur d'eau-vide assure un haut débit et des problèmes de particules faibles à l'interface. La conception d'Endura CL prend en charge une variété de techniques de processus, y compris le traitement thermique rapide (RTP) ainsi que le dépôt électrochimique (ECD) et l'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE). Il est capable de traiter à haute température jusqu'à 1200 ° C avec un gaz de chlore ambiant jusqu'à 1,300℃. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS L'Endura CL est également capable de supporter des applications de cristallisation, de dépôt de film d'oxyde, de dépôt de nitrure et de contact ohmique. AMAT Endura CL est le réacteur de dépôt chimique à basse pression (LPCVD) le plus avancé de l'industrie avec une conception hautement personnalisable qui permet de construire des outils sur mesure. Il dispose d'un logiciel de contrôle intuitif qui peut être utilisé pour créer des recettes personnalisées pour obtenir un débit et un rendement de processus optimaux. Le réacteur peut être utilisé pour diverses applications de films, y compris des couches d'interconnexion, des couches diélectriques inter-niveaux (ILD), des couches de barrière et de diffusion, et des couches de passivation. Sa conception lui donne la flexibilité nécessaire pour manipuler un large éventail de matériaux, notamment le silicium-germanium, le germanium, l'arséniure de gallium, le nitrure et les films de silicium polycristallin. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La machine Endura CL est spécifiquement conçue pour traiter des plaquettes jusqu'à 200 mm de diamètre. Il offre également un outil de suivi des processus en ligne (PST) ainsi qu'un atout de contrôle endpoint qui aide les utilisateurs à maximiser le rendement et optimiser la performance globale du processus. En conclusion, Endura CL est un puissant modèle de réacteur clamshell qui offre une conformité et une uniformité supérieures pour le dépôt de matériaux nano-électroniques. Le réacteur est équipé d'une variété de fonctionnalités avancées et est entièrement personnalisable pour répondre aux besoins du client. Il est également capable de manipuler un large éventail de matériaux et d'applications avec son traitement à haute température et sa conception d'outils personnalisables.
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