Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9281532 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura CL est un équipement avancé et stabilisé par la dérive pour la croissance des cristaux et le traitement des semi-conducteurs, idéal pour les processus de dépôt et de diffusion dans un environnement à ultra-haut vide. Le CL représente la couche de cristal, se référant aux couches minces hautement reproductibles qui peuvent être produites dans le réacteur, tandis que l'Endura indique la stabilité à long terme des processus de dépôt et de diffusion. Le système est équipé de sources à double filament, de sorte que deux matériaux peuvent être intégrés dans une seule chambre de réacteur. L'ensemble peut être chauffé jusqu'à 1500 ° C grâce à son dispositif de chauffage quadruple sans hélium, qui utilise le chauffage par induction pour améliorer l'uniformité sur l'ensemble de la plaquette. En outre, la machine a une alimentation électrique qui peut livrer jusqu'à 750A du courant continu. Le canon E-beam du groupe est conçu pour des applications précises et à haute densité ; il dispose d'un scanner 3 axes pour uniformiser la répartition de la densité de courant électrique. Il utilise un modulateur d'impulsions de forte puissance pour fournir un flux maximum au substrat et des durées de vie plus longues dans les diodes LED ou laser. La conception intègre également un environnement de type mur chaud qui se traduit par une plus grande uniformité pour les processus monobloc. Les procédés de diffusion et d'oxydation bénéficient d'une uniformité de température intrinsèquement élevée ; la conception de la paroi chaude élimine la nécessité de techniques d'uniformisation supplémentaires, permettant un meilleur contrôle et une plus grande précision du dépôt. La chambre de réaction est un outil à faible coût, en boucle fermée, qui conduit à un dépôt en couche mince homogène et économique. De plus, il dispose d'un échangeur de sources intégré au robot qui permet un accès rapide et facile à divers matériaux. Pour améliorer la qualité du dépôt, l'actif a une fonction base-pression, qui permet de contrôler précisément la pression du gaz dans le processus. Enfin, le modèle comporte une boucle de profilage et de rétroaction pour la surveillance de l'équipement et le contrôle du processus, qui fournit des renseignements détaillés sur l'environnement du processus, les paramètres du processus ainsi que la santé et l'entretien du système. Ainsi, le réacteur AMAT Endura CL assure une croissance épitaxiale fiable et reproductible et offre une excellente efficacité, fiabilité et uniformité du procédé.