Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9293628 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura CL est un équipement de dépôt en phase gazeuse à flux continu conçu pour le dépôt en couche atomique à basse température (ALD) sur des matériaux métalliques, diélectriques et semi-conducteurs. Ce système permet le dépôt d'oxyde, de nitrure, de sulfure et d'autres matériaux à couches minces pour divers besoins de développement, tels que des films de précision pour des systèmes microélectromécaniques (MEMS) et des composants optiques avancés. AMAT Endura CL Reactor a une conception modulaire et est construit avec des matériaux supérieurs pour la durabilité à long terme. Il est équipé d'une source de dépôt double, permettant le fonctionnement simultané de deux films distincts, ce qui réduit le temps nécessaire pour un dépôt unique par rapport aux systèmes mono-source classiques. Cette unité utilise également des technologies avancées de dépôt de films telles que l'ALD séquentielle et le co-dépôt. Le procédé ALD séquentiel permet la croissance couche par couche, ce qui produit des films d'épaisseur uniformes, conformes et hautement régulés. Le procédé de co-dépôt permet de co-déposer deux matériaux pour des propriétés pelliculaires contrôlées et précises. Le réacteur comprend une machine automatisée de chargement d'échantillons avec un collecteur de gaz à haut rendement capable de délivrer différents gaz et précurseurs. Il fournit également un contrôle précis de la température et du débit, ainsi qu'une injection pulsée de gaz réactif et un débit de gaz discontinu chronométré, qui permettent un contrôle parfait des paramètres ALD. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura CL comprend un poste de travail avec une interface utilisateur graphique brillante pour une surveillance et un contrôle pratiques des processus de dépôt. Il est équipé d'une fonction d'enregistrement des données qui enregistre chaque étape et est programmé pour les étapes de recette automatisées. Cet outil comprend également une variété de fonctions de sécurité telles que l'alerte à la température excessive, l'alarme de débit et la soupape de sécurité. Dans l'ensemble, le réacteur Endura CL fournit des solutions de dépôt en couches minces précises et répétables pour diverses exigences de développement. Ses caractéristiques avancées et son débit de gaz à haut rendement le rendent idéal pour les ALD à basse température des matériaux métalliques, diélectriques et semi-conducteurs. Cet atout fiable et convivial offre une qualité de film supérieure, ce qui le rend parfait pour un dépôt précis et uniforme de couches minces sur une large gamme de substrats.