Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 #293822305 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500
ID: 293822305
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2019
PVD System, 6" Dual loadloack Dual transfer chamber & dual on-board 8F cryopumps Orienter / degas module Preclean chamber & LEYBOLD TMP361C Turbopump Chamber 2: PVD sputter chamber On-board 8F cryopump Chamber 3: Wide body PVD sputter chamber On-board 8F cryopump Control cabinet Generator rack (2) Advanced energy pinnacle RF generators (2) CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressors Motor controller EDWARDS iXL 1000 Vacuum pump EDWARDS iXL120 vacuum pump THERMO FISHER Recirculating chiller COMDEL CDX-2000 dual RF generator Power cabinet Voltage: 208V Frequency: 60Hz RPM: 3ph Currency: 150kVA 2019 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Le réacteur Endura HP 5500 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe conçu spécifiquement pour la fabrication à haut volume de dispositifs semi-conducteurs avancés. Ce réacteur est un outil critique utilisé dans les installations de fabrication de semi-conducteurs pour déposer des couches minces de divers matériaux sur des plaquettes de silicium, étape clé dans la réalisation de circuits intégrés. Une des caractéristiques clés de l'AMAT Endura HP 5500 est sa capacité à haut débit, permettant un traitement efficace de grandes quantités de plaquettes en peu de temps. Cela est obtenu grâce à une combinaison de systèmes d'automatisation avancés, un contrôle optimisé du débit de gaz et des mécanismes améliorés de manutention des plaquettes. Le réacteur est conçu pour minimiser les temps d'arrêt et maximiser la productivité, ce qui en fait un choix idéal pour les installations de fabrication de semi-conducteurs à haut volume. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'Endura HP 5500 est équipé de plusieurs chambres de procédés, chacune capable d'effectuer simultanément différents procédés de dépôt. Ceci permet une flexibilité et une efficacité accrues dans les procédés de fabrication, car différents types de films minces peuvent être déposés sur des plaquettes en parallèle. Le réacteur est également équipé de systèmes avancés de contrôle de la température pour assurer un chauffage précis et uniforme des plaquettes pendant le processus de dépôt, conduisant à une croissance de film de haute qualité et à une amélioration des performances du dispositif. Le réacteur est conçu pour traiter un large éventail de matériaux, y compris des films diélectriques, des films métalliques et des semi-conducteurs composés. Cette polyvalence rend Endura HP 5500 adapté à une variété d'applications dans la fabrication de semi-conducteurs, des puces mémoire aux dispositifs logiques en passant par les appareils de puissance. Le réacteur est également capable de déposer des films d'épaisseurs et de propriétés variables, ce qui permet aux fabricants d'adapter le procédé à leurs besoins spécifiques. En termes de contrôle des procédés, AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 dispose de systèmes de surveillance et de contrôle avancés pour garantir des résultats de dépôt précis et reproductibles. Le réacteur est équipé d'outils de métrologie en temps réel qui permettent aux opérateurs de surveiller l'épaisseur, la composition et l'uniformité du film pendant le processus de dépôt. Cette boucle de rétroaction permet d'optimiser et de contrôler le processus, ce qui améliore la qualité et le rendement du film. L'AMAT Endura HP 5500 est également conçu dans un souci de durabilité, avec des composants et des processus économes en énergie pour minimiser l'impact environnemental. Le réacteur est équipé de systèmes de réduction des gaz résiduaires pour réduire les émissions de sous-produits nocifs, ainsi que de systèmes de distribution de gaz efficaces pour réduire la consommation de gaz. Ces caractéristiques de durabilité font des matériaux appliqués Endura HP 5500 un choix privilégié pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à réduire leur empreinte carbone et à se conformer à la réglementation environnementale. Dans l'ensemble, l'Endura HP 5500 est un réacteur CVD de pointe qui offre un débit, une flexibilité et une précision élevés pour la fabrication de semi-conducteurs à haut volume. Sa conception avancée, ses capacités de contrôle des processus et ses caractéristiques de durabilité en font un outil précieux pour la production de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération avec des performances et une fiabilité améliorées.
Il n'y a pas encore de critiques