Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP PVD #9364583 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Endura HP PVD (Physical Vapor Deposition) est un équipement de dépôt semi-conducteur de pointe qui permet la fabrication de semi-conducteurs de haute précision et performants. Ce système de gravure et de dépôt à sec est constitué de deux parties générales : une chambre à vide et une ou plusieurs sources de gaz. La chambre à vide est constituée d'un volume intérieur avec des parois en acier inoxydable ou en céramique. En fonctionnement, la chambre à vide est remplie d'une atmosphère inerte, typiquement de l'argon ou de l'azote. L'unité comprend également plusieurs sources de gaz qui alimentent la chambre en PVD, y compris l'azote, l'oxygène et l'hélium. Ces gaz peuvent être simultanément répartis dans la chambre PVD, permettant la création de films multicouches et la métallisation. Le procédé PVD est généralement conduit à une pression comprise entre 1 et 10 mTorr dans la chambre, et à des températures allant jusqu'à 1 200 ° C La source de plasma intégrée et couplée de façon capacitive du réacteur peut encore faire basculer l'équilibre des particules ionisées au profit de taux de dépôt plus élevés. La source de plasma et les injecteurs sont réglables, ce qui permet aux ingénieurs du procédé de peaufiner leurs procédés pour garantir une qualité optimale des films déposés. Le réacteur PVD AMAT Endura HP est équipé de caractéristiques de pointe, telles que l'automatisation du chargement et de la manipulation des plaquettes, la récupération automatique de la charge, les capacités de nettoyage in situ, le contrôle de la température et le contrôle précis du mouvement de la cible, pour assurer le dépôt de matériaux de haute précision. De plus, la machine dispose d'un positionnement 5 axes pour un contrôle précis de la rotation, et comprend un moniteur d'exposition de surface et un enregistreur de données intégré pour suivre les données de processus pour examen. Les avantages du réacteur PVD Endura HP APPLIED MATERIALS comprennent un environnement de traitement fiable avec un contrôle de procédé supérieur, une couche précise uniformément et une faible défectivité. Grâce à ce réacteur, les fabricants sont en mesure de réaliser des couches de film robustes et hautement fonctionnelles qui font partie intégrante des performances et de la fiabilité des futurs dispositifs semi-conducteurs. En résumé, le réacteur PVD Endura HP est un outil avancé de dépôt de semi-conducteurs qui combine un contrôle supérieur des procédés avec des fonctionnalités avancées pour fournir un dépôt optimal de films.