Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #117295 à vendre en France

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ID: 117295
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
ALD PVD chamber, 12" Gen 1 TaN BFBE Leybold turbo 2006 vintage As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est un réacteur à dépôt thermique en phase vapeur (CVD) de haute performance capable de produire des films épais et de haute qualité qui ont une excellente stabilité. AKT Endura II est utilisé pour déposer une variété de matériaux, y compris des diélectriques, des conducteurs, des couches barrières et des composés organiques. AMAT Endura II offre une homogénéité supérieure, un contrôle de vitesse supérieur et une répétabilité supérieure des plaquettes. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II est utilisé pour produire des films épais qui ont une excellente stabilité et uniformité de processus. Le produit final est des films très stables, uniformes et sans défaut. Endura II est un réacteur CVD horizontal monocouche qui se compose d'une zone chaude (ensemble porte-substrat) et d'un générateur de plasma RF. La zone chaude est constituée d'un support de substrat chauffé, d'un étage d'échantillonnage et d'un moteur à vitesse variable. Le générateur de plasma RF fournit l'énergie de rayonnement au processus CVD. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA II permet un contrôle précis de la vitesse de dépôt, avec une plage de 5 à 250 nm/s pour les dépôts à haut débit et de 0,01 à 5 nm/s pour les dépôts à bas débit. AKT Endura II utilise une source de plasma multifréquence pour améliorer l'uniformité des films et la stabilité des procédés. Le générateur est conçu pour optimiser la génération de plasma et réduire le profil du procédé. Cela permet de maximiser l'uniformité des dépôts tout en maintenant le processus stable et reproductible. La source de plasma multifréquence réduit également la répétabilité de la tranche à la tranche du procédé. AMAT Endura II intègre également un design unique de tête de douche de plusieurs longueurs qui permet une excellente uniformité de dépôt. La tête de douche est constituée d'une série de paliers dont chacun a une longueur différente pour permettre un dépôt uniforme sur la longueur de la chambre. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Endura II est en mesure d'utiliser une large gamme de températures pour accueillir différentes recettes de dépôt. Endura II est conçu pour être utilisé dans des applications nécessitant des processus CVD de haute qualité tels que la microélectronique, MEMS, et la fabrication de dispositifs optoélectroniques. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II est capable de déposer des matériaux diélectriques et organiques ainsi que des couches barrière. La conception unique de l'AKT Endura II et ses capacités avancées en font le choix idéal pour les applications nécessitant un dépôt très uniforme, une excellente répétabilité et une stabilité de procédé.
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